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    CMOS and memories : From 100 nm to 10 nm!
    TIWARI, S ; SOLOMON, P. M ; et al.
    In: Micro- and Nano- Engineering 98, MNE. Proceedings of the International Conference on Micro- and Nanofabrication, September 22-24 1998, Leuven, Belgium, Jg. 46 (1999), Heft 1-4, S. 3-6
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    CMOS device fabrication and the evolution of optical lithographic exposure tools
    ARNOLD, W. H
    In: Micro- and Nano- Engineering 98, MNE. Proceedings of the International Conference on Micro- and Nanofabrication, September 22-24 1998, Leuven, Belgium, Jg. 46 (1999), Heft 1-4, S. 7-9
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Study of thin gate oxide etching during plasma patterning of 0,1 μm Si gates
    DESVOIVRES, L ; BONVALOT, M ; et al.
    In: Micro- and Nano- Engineering 98, MNE. Proceedings of the International Conference on Micro- and Nanofabrication, September 22-24 1998, Leuven, Belgium, Jg. 46 (1999), Heft 1-4, S. 295-298
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Novel optical probing and micromachining techniques for silicon debug of flip chip packaged microprocessors
    PANICCIA, M ; EILES, T ; et al.
    In: Micro- and Nano- Engineering 98, MNE. Proceedings of the International Conference on Micro- and Nanofabrication, September 22-24 1998, Leuven, Belgium, Jg. 46 (1999), Heft 1-4, S. 27-34
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Effect of develop time on process windows in sub-half micron optical lithography
    ARTHUR, G ; MARTIN, B ; et al.
    In: Micro- and Nano- Engineering 98, MNE. Proceedings of the International Conference on Micro- and Nanofabrication, September 22-24 1998, Leuven, Belgium, Jg. 46 (1999), Heft 1-4, S. 77-80
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
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