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    Structural characteristics of carbon nanostructures synthesized by ECR-CVD.
    Fang, Te-Hua ; Tong Hong Wang ; et al.
    In: Microelectron. J., Jg. 39 (2008), Heft 12, S. 1600-1604
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    GaN MSM photodetectors with photo-CVD annealed Ni/Au electrodes.
    Jhou, Y. D. ; Chen, C. H. ; et al.
    In: Microelectron. J., Jg. 37 (2006), Heft 4, S. 328-331
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    The aligned Si nanowires growth using MW plasma enhanced CVD.
    Dzbanovsky, N. N. ; Dvorkin, V. V. ; et al.
    In: Microelectron. J., Jg. 36 (2005), Heft 7, S. 634-638
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Catalytic CVD production of carbon nanotubes using ethanol.
    Ortega-Cervantez, G. ; Rueda-Morales, G. ; et al.
    In: Microelectron. J., Jg. 36 (2005), Heft 3-6, S. 495-498
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Impact of barrier deposition process on electrical and reliability performance of Cu/CVD low k SiOCH metallization.
    Tsang, C. F. ; Li, C. Y. ; et al.
    In: Microelectron. J., Jg. 35 (2004), Heft 9, S. 693-700
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Study and improvement of electrical performance of 130 nm Cu/CVD low k SiOCH interconnect related to via etch process.
    Tsang, C. F. ; Bliznetsov, V. N. ; et al.
    In: Microelectron. J., Jg. 34 (2003), Heft 11, S. 1051-1058
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Raman scattering of polycrystalline 3C-SiC film deposited on AlN buffer layer by using CVD with HMDS.
    Chung, Gwiy-Sang ; Kim, Kang-San
    In: Microelectron. J., Jg. 39 (2008), Heft 12, S. 1405-1407
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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sm 576 - 768
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