Zum Hauptinhalt springen
UB Hagen

Suchergebnisse

UB Katalog

Artikel & mehr
491 Treffer

Suchmaske

Suchtipp für den Bereich Artikel & mehr: Wörter werden automatisch mit UND verknüpft. Eine ODER-Verknüpfung erreicht man mit dem Zeichen "|", eine NICHT-Verknüpfung mit einem "-" (Minus) vor einem Wort. Anführungszeichen ermöglichen eine Phrasensuche.
Beispiele: (burg | schloss) -mittelalter, "berufliche bildung"

Das folgende Suchfeld wird hier nicht unterstützt: "Signatur / Strichcode".

Suchergebnisse einschränken oder erweitern

Aktive Suchfilter

Erscheinungszeitraum

Mehr Treffer

Weniger Treffer

Gefunden in

Schlagwort

Sprache

491 Treffer

Sortierung: 
  1. Detailansicht für Treffer 1 öffnen
    Performance improvement of chip-level CMOS-integrated ReRAM cells through material optimization
    Demirci, Tugba ; Leblebici, Yusuf ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 214 (2019-06-01), S. 74-80
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    Thermal stress analysis for a CMOS-MEMS microphone with various metallization and materials
    Yeh, Meng-Kao ; Lu, Chun-Lin
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 213 (2019-05-01), S. 47-54
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Improved digital performance of hybrid CMOS inverter with Si p-MOSFET and InGaAs n-MOSFET in the nanometer regime
    Tewari, Suchismita ; De, Suchismita ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 211 (2019-04-01), S. 18-25
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Digital image correlation of SEM images for surface deformation of CMOS IC
    Tzu Ching Chen ; Lin, Ming-Tzer ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 201 (2018-12-01), S. 16-21
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Radiation-tolerance analysis of I-gate n-MOSFET according to isolation oxide module in the CMOS bulk process
    Cho, Seong-Ik ; Lee, Nam-Ho ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 200 (2018-11-01), S. 45-50
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Fabrication and characterization of a hammer-shaped CMOS/BEOL-embedded nanoelectromechanical (NEM) relay
    Uranga, Arantxa ; Torres, F. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 192 (2018-05-01), S. 44-51
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    High speed and low sensitive current-mode CMOS perceptron
    Szczźsny, Szymon
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 165 (2016-11-01), S. 41-51
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Self-aligned inversion-channel n-InGaAs, p-GaSb, and p-Ge MOSFETs with a common high κ gate dielectric using a CMOS compatible process
    Chen, S.H. ; Brown, Gail J. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 147 (2015-11-01), S. 330-334
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Polycrystalline silicon gate originated CMOS device failure investigated by Scanning Spreading Resistance Microscopy
    Richter, Mirco ; Mikolajick, Thomas ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 142 (2015-07-01), S. 40-46
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    CMOS-compatible GaN-based high electron mobility transistors with gate-first technology
    Gao, Sheng ; Xie, Zijing ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 264 (2022-08-01), S. 111860-111860
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    On the scaling of subnanometer EOT gate dielectrics for ultimate nano CMOS technology
    Iwai, Hiroshi ; Wong, Hei
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 138 (2015-04-01), S. 57-76
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Challenges of nickel silicidation in CMOS technologies
    Jordan-Sweet, Jean ; Nummy, Karen A. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 137 (2015-04-01), S. 79-87
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    CMOS–MEMS resonators: From devices to applications
    Verd, Jaume ; Uranga, Arantxa ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 132 (2015), S. 58-73
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    WITHDRAWN: Sub-20 nm multilayer nanopillar patterning for hybrid SET/CMOS integration
    Tiron, Raluca ; Engelmann, Hans-Jürgen ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, 2020-05-01, S. 111336-111336
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Cryo-CMOS design-technology co-optimization of low noise amplifier for silicon qubit readout
    Kang, Dongsuk ; Yu, Shimeng
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 262 (2022-06-01), S. 111837-111837
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Monolithic z-axis CMOS MEMS accelerometer
    Tseng, Sheng-Hsiang ; Wu, Po-Chang ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 119 (2014-05-01), S. 178-182
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    CMOS-MEMS switches based on back-end metal layers
    Torres, F. ; Munoz-Gamarra, J. L. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 119 (2014-05-01), S. 127-130
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    An integrated electroless nickel plating process for fabrication of CMOS-MEMS probe chip
    Jian-Ming, Lin ; Chao, Pen-Shan ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 113 (2014), S. 147-151
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Prediction of energy change due to hot carrier injection in nano-structured CMOS system: Perspective of an envelope detector
    Nissar Mohammad Karim ; Manzoor, Sadia ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 111 (2013-11-01), S. 256-260
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Integration of NEMS resonators in a 65nm CMOS technology
    Giner, J. ; Marigo, E. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 110 (2013-10-01), S. 246-249
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -