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    Performance improvement of chip-level CMOS-integrated ReRAM cells through material optimization
    Demirci, Tugba ; Leblebici, Yusuf ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 214 (2019-06-01), S. 74-80
    Online unknown
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    Thermal stress analysis for a CMOS-MEMS microphone with various metallization and materials
    Yeh, Meng-Kao ; Lu, Chun-Lin
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 213 (2019-05-01), S. 47-54
    Online unknown
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    On the scaling of subnanometer EOT gate dielectrics for ultimate nano CMOS technology
    Iwai, Hiroshi ; Wong, Hei
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 138 (2015-04-01), S. 57-76
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    CMOS–MEMS resonators: From devices to applications
    Verd, Jaume ; Uranga, Arantxa ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 132 (2015), S. 58-73
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    Prediction of energy change due to hot carrier injection in nano-structured CMOS system: Perspective of an envelope detector
    Nissar Mohammad Karim ; Manzoor, Sadia ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 111 (2013-11-01), S. 256-260
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    Low power and high performance dynamic CMOS XOR/XNOR gate design
    Hou, Ligang ; Wu, Wuchen ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 88 (2011-08-01), S. 2781-2784
    Online unknown
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    Interfaces and performance: What future for nanoscale Ge and SiGe based CMOS?
    C. Le Royer
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 88 (2011-07-01), S. 1541-1548
    Online unknown
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    Through silicon via: From the CMOS imager sensor wafer level package to the 3D integration
    Gagnard, Xavier ; Mourier, Thierry
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 87 (2010-03-01), S. 470-476
    Online unknown
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    A comparison study of CMOS T/R switches using gate/source-terminated field-plate transistors
    Chiu, Hsien-Chin ; Lin, Shao-Wei ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 87 (2010-02-01), S. 225-229
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    Gate dielectric degradation in CMOS inverters
    Gerardin, Simone ; Ghidini, Gabriella ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 86 (2009-10-01), S. 2123-2126
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    Opportunities and challenges for Ge CMOS – Control of interfacing field on Ge is a key (Invited Paper)
    Choonghyun, Lee ; Nishimura, Tomonori ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 86 (2009-07-01), S. 1571-1576
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    Electron- and ion-beam lithography for the fabrication of nanomechanical devices integrated on CMOS circuits
    Rius, Gemma ; Pérez-Murano, Francesc ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 86 (2009-04-01), S. 1046-1049
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    Some issues in advanced CMOS gate stack performance and reliability
    Shen, C. ; Li, Ming-Fu ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 88 (2011-12-01), S. 3377-3384
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    New carbon-based thermal stability improvement technique for NiPtSi used in CMOS technology
    Lauwers, Anne ; Togo, M. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 88 (2011-05-01), S. 578-582
    Online unknown
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    Fin-height controlled TiN-gate FinFET CMOS based on experimental mobility
    Sakamoto, Kunihiro ; Masahrara, M. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 84 (2007-09-01), S. 2101-2104
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Materials and device structures for sub-32 nm CMOS nodes
    Skotnicki, Thomas
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 84 (2007-09-01), S. 1845-1852
    Online unknown
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    Highly linear wide input range CMOS OTA architectures operating in subthreshold and strong inversion
    Carvajal, Ramon G. ; Ramirez-Angulo, Jaime ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 84 (2007-02-01), S. 273-279
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    A direct-write microfluidic fabrication process for CMOS-based Lab-on-Chip applications
    Rajagopalan, Sumitra ; Chodavarapu, Vamsy P. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 86 (2009-10-01), S. 2104-2109
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    Design and testing of a self-powered 3D integrated SOI CMOS system
    Akturk, Akin ; Goldsman, Neil ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 85 (2008-02-01), S. 388-394
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    Optimization of a very cost-effective high voltage p-channel transistor implemented in a standard twin-tub CMOS technology
    Godignon, Phillippe ; Jordí, X. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 77 (2005-02-01), S. 158-167
    Online unknown
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