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    academicJournal
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    Performance comparison of vertically stacked nanosheet CFET and standard CMOS without and with parasitic channels
    Li, Jiawei ; Zhao, Mengqing ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 279 (2023-07-15)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    CMOS-compatible GaN-based high electron mobility transistors with gate-first technology
    Gao, Sheng ; Xie, Zijing ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 264 (2022-08-15)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Cryo-CMOS design-technology co-optimization of low noise amplifier for silicon qubit readout
    Kang, Dongsuk ; Yu, Shimeng
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 262 (2022-06-01)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Fully CMOS-compatible passive TiO2-based memristor crossbars for in-memory computing
    El Mesoudy, Abdelouadoud ; Lamri, Gwénaëlle ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 255 (2022-02-01)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Characterization of thin Al2O3/SiO2 dielectric stack for CMOS transistors
    Yan, Yiyi ; Kilchytska, Valeriya ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 254 (2022-02-01)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Performance improvement of chip-level CMOS-integrated ReRAM cells through material optimization
    Shahrabi, Elmira ; LaGrange, Thomas ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 214 (2019-06-01), S. 74-80
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Thermal stress analysis for a CMOS-MEMS microphone with various metallization and materials
    Lu, Chun-Lin ; Yeh, Meng-Kao
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 213 (2019-05-15), S. 47-54
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Improved digital performance of hybrid CMOS inverter with Si p-MOSFET and InGaAs n-MOSFET in the nanometer regime
    De, Suchismita ; Tewari, Suchismita ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 211 (2019-04-15), S. 18-25
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Digital image correlation of SEM images for surface deformation of CMOS IC
    Chen, Terry Yuan-Fang ; Chen, Tzu-Ching ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 201 (2018-12-05), S. 16-21
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Radiation-tolerance analysis of I-gate n-MOSFET according to isolation oxide module in the CMOS bulk process
    Lee, Minwoong ; Cho, Seongik ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 200 (2018-11-15), S. 45-50
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Fabrication and characterization of a hammer-shaped CMOS/BEOL-embedded nanoelectromechanical (NEM) relay
    Riverola, M. ; Uranga, A. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 192 (2018-05-15), S. 44-51
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    High speed and low sensitive current-mode CMOS perceptron
    Szczęsny, Szymon
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 165 (2016-11-01), S. 41-51
    academicJournal
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    Fin-height controlled TiN-gate FinFET CMOS based on experimental mobility
    LIU, Y. X ; MATSUKAWA, T ; et al.
    In: INFOS 2007: Proceedings of the 15th Biennial Conference on Insulating Films on Semiconductors, June 20-23, Jg. 84 (2007), Heft 9-10, S. 2101-2104
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Electrical detection of multiple resonant modes in a CMOS-MEMS cantilever
    URANGA, A ; VERD, J ; et al.
    In: Proceedings of the 32nd International Conference on Micro- and Nano-Engineering, Barcelona, 17-20 September 2006, Jg. 84 (2007), Heft 5-8, S. 1374-1378
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Modulation of the Schottky Barrier Height for CMOS advanced contacts
    Menghini, Mariela A. ; Homm, Pia ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 156 (2016-04-20), S. 82-85
    academicJournal
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    Vertical integrated-gate CMOS for ultra-dense IC
    YIJIAN, CHEN ; CHU, Albert
    In: Proceedings of the 31st International Conference on Micro- and Nano-Engineering: 19-22 September 2005, Vienna, Austria, Jg. 83 (2006), Heft 4-9, S. 1745-1748
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Piezoresistive cantilevers in a commercial CMOS technology for intermolecular force detection
    VILLANUEVA, Guillermo ; PEREZ-MURANO, Francesc ; et al.
    In: Proceedings of the 31st International Conference on Micro- and Nano-Engineering: 19-22 September 2005, Vienna, Austria, Jg. 83 (2006), Heft 4-9, S. 1302-1305
    Konferenz
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    Single chip integration of MWCNTs/SiO2 thin film humidity sensor based on standard CMOS IC process
    TUO, LI ; XIAOWEI, LIU ; et al.
    In: Micro/Nano Devices and Systems 2013: An open thematic journal issue, Jg. 119 (2014), S. 155-158
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Post-processing and performance analysis of BEOL integrated MEMS pressure sensor capacitors in 8-metal 130 nm CMOS
    ANANIAH DURAI, SUNDARARAJAN ; REZAUL HASAN, S. M
    In: Micro/Nano Devices and Systems 2013: An open thematic journal issue, Jg. 119 (2014), S. 89-94
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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