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    Fabrication of metallic nanocavities by soft UV nanoimprint lithography
    Shi, J. ; Chen, J. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 86 (2009-04-01), Heft 4-6, S. 596-599
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Development of robust interfaces based on crystalline [gamma]-Al.sub.2O.sub.3(001) for subsequent deposition of amorphous high-[kappa] oxides
    Merckling, C. ; El-Kazzi, M. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 84 (2007-09-01), Heft 9-10, S. 2243-2246
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Sub-5nm FIB direct patterning of nanodevices
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 84 (2007-05-01), Heft 5-8, S. 779-783
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Superhydrophobic surfaces fabricated by nanoimprint lithography
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 83 (2006-04-01), Heft 4-9, S. 884-888
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Towards the creation of quantum dots using FIB technology
    Kitslaar, P. ; Strassner, M. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 83 (2006-04-01), Heft 4-9, S. 811-814
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Reactive ion etching of glass for biochip applications: Composition effects and surface damages
    Thienot, Edouard ; Domingo, Florian ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 83 (2006-04-01), Heft 4-9, S. 1155-1158
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Exploration of the ultimate patterning potential achievable with focused ion beams
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 78-79 (2005-03-01), S. 266-278
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Microfabricated textured surfaces for super-hydrophobicity investigations
    Callies, Mathilde ; Chen, Yong ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 78-79 (2005-03-01), S. 100-105
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    New SiC microcantilever electric connection array for single molecule electrical investigation
    Coutrot, A. L. ; Roblin, C. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 86 (2009-04-01), Heft 4-6, S. 1197-1199
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Development of a STM compatible ion emitter capable of atomic imaging resolution
    Martrou, D. ; Gierak, J.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 85 (2008-05-01), Heft 5-6, S. 1403-1405
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    A new way to integrate solid state nanopores for translocation experiments
    Huisman, E.M. ; Biance, A. L. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 85 (2008-05-01), Heft 5-6, S. 1311-1313
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Development of robust interfaces based on crystalline γ-Al2O3(001) for subsequent deposition of amorphous high-κ oxides
    Saint-Girons, Guillaume ; El-Kazzi, M. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 84 (2007-09-01), S. 2243-2246
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Fabrication of SOI photonic crystal slabs by soft UV-nanoimprint lithography
    Belotti, M. ; Torres, Jérémi ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 83 (2006-04-01), S. 1773-1777
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Microfabricated textured surfaces for super-hydrophobicity investigations
    Quéré, David ; Chen, Yong ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, 2005-03-01, S. 100-105
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Thermo-resistance based micro-calorimeter for continuous chemical enthalpy measurements
    Méance, Sébastien ; Malaquin, Laurent ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 85 (2008-05-01), S. 1367-1369
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    An ultra-thin SiO2 ALD layer for void-free bonding of III–V material on silicon
    Talneau, A. ; Pantzas, K. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 162 (2016-08-16), S. 40-44
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Phase formation in the Ni/n–InP contacts for heterogeneous III/V-silicon photonic integration
    Ghegin, E. ; Nemouchi, F. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 156 (2016-04-20), S. 86-90
    academicJournal
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    FIB patterning of dielectric, metallized and graphene membranes: A comparative study
    Hemamouche, A. ; Morin, A. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 121 (2014-06-01), S. 87-91
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Recombination dynamics in piezoelectric (2 1 1)B InAs quantum dots
    Germanis, S. ; Beveratos, A. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 112 (2013-12-01), S. 179-182
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Hybrid force-assisted 3-D assembly of helical nanobelts
    Hwang, Gilgueng ; Hashimoto, Hideki
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 108 (2013-08-01), S. 16-23
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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