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    Quantum chemistry of CVD processes / 化学気相成長 (CVD) プロセスの量子化学
    Akitomo, TACHIBANA ; 明知, 立花
    In: 応用物理, Jg. 65 (1996-12-10), Heft 12, S. 1243
    academicJournal
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    A novel chemical vapor deposition technique for low-temperature growth of large-area semiconductor thin films: Reactive CVD / 半導体大面積薄膜の新しい低温作製法:反応性化学気相成長 (CVD) 法
    Jun-ichi, HANNA ; 純一, 半那
    In: 応用物理, Jg. 65 (1996-04-10), Heft 4, S. 382
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Thin-film formation by high-fluidity plasma-enhanced CVD / 高流動性プラズマCVDによる薄膜形成
    Masataka, HIROSE ; Seiichi, MIYAZAKI ; et al.
    In: 応用物理, Jg. 63 (1994-11-10), Heft 11, S. 1118
    academicJournal
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    Silicon thin films prepared using the cat-CVD method / 触媒CVD (cat-CVD)法によるシリコン系薄膜堆積
    Hideki, MATSUMURA ; 英樹, 松村
    In: 応用物理, Jg. 66 (1997-10-10), Heft 10, S. 1094
    academicJournal
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    Deposition of high-quality Cu thin films using plasma CVD reactor with H-radical source / 水素ラジカル源付プラズマCVD装置による高品質銅薄膜の形成
    Masaharu, SHIRATANI ; Yukio, WATANABE ; et al.
    In: 応用物理, Jg. 68 (1999-03-10), Heft 3, S. 299
    academicJournal
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    Deposition of poly-Si1-xGex thin films at low temperatures by reactive thermal CVD and their TFT application / 反応性熱CVD法による多結晶Si1-xGex薄膜の低温たい積とTFTへの応用
    Jian-Jun, ZHANG ; Jun-ichi, HANNA ; et al.
    In: 応用物理, Jg. 71 (2002-07-10), Heft 7, S. 878
    academicJournal
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    CVD Si1-x-yGexCy epitaxial growth and its doping control / CVD法によるSi1-x-yGexCyエピタキシャル成長とドーピング制御
    Junichi, MUROTA ; Masao, SAKURABA ; et al.
    In: 応用物理, Jg. 70 (2001-09-10), Heft 9, S. 1082
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    CVD-Superconducting Films / CVD酸化物超伝導膜
    Hisanori, YAMANE ; Toshio, HIRAI ; et al.
    In: 応用物理, Jg. 59 (1990-02-10), Heft 2, S. 134
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Theoretical Study on Silicon CVD Processes Electronic States and Reactivities of Silylenes / シリコンCVDの理論的研究
    Akihiko, ISHITANI ; Shiro, KOSEKI ; et al.
    In: 応用物理, Jg. 59 (1990-08-10), Heft 8, S. 1014
    academicJournal
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  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    CVD成膜の物理
    Physics of film growth by chemical vapor deposition
    In: 応用物理, Jg. 69 (2000-06-10), Heft 6, S. 689
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Activities of PFCs emission reduction by EIAJ CVD & Dry Etching working group / 最近のPFC等排出削減取り組みについて—日本電子機械工業会におけるWG活動—
    Yoshinari, MATSUSHITA ; 圭成, 松下
    In: 応用物理, Jg. 69 (2000-03-10), Heft 3, S. 305
    academicJournal
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    High-Tc BiSrCaCuO Superconductor Grown by Halide-CVD System / ビスマス系超伝導体薄膜の気相成長
    Hideki, YAMAWAKI ; Kazuto, IKEDA ; et al.
    In: 応用物理, Jg. 58 (1989-05-10), Heft 5, S. 751
    academicJournal
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    Formation of diamond films by pulsed discharge plasma chemical vapor deposition / パルス放電プラズマ化学気相成長 (CVD) によるダイヤモンド膜の作製
    Mikio, NODA ; 三喜男, 野田
    In: 応用物理, Jg. 65 (1996-12-10), Heft 12, S. 1258
    academicJournal
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Deposition of a-Si: H based film by high voltage pulse discharge CVD / 高電圧パルス放電化学気相成長法による アモルファスシリコン系薄膜の作製
    Hiroshi, SAKAI ; Takashi, YOSHIDA ; et al.
    In: 応用物理, Jg. 61 (1992-10-10), Heft 10, S. 1039
    academicJournal
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Optimum design policy of chemical vapor deposition processes / 化学気相成長(CVD)の合理的設計
    Hiroshi, KOMIYAMA ; 宏, 小宮山
    In: 応用物理, Jg. 66 (1997-10-10), Heft 10, S. 1115
    academicJournal
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Initial Processes of a-Si Formation by Photo-CVD / 光CVD法によるa-Si生成の初期過程
    Hiroshi, HADA ; Kazunori, HAYASHI ; et al.
    In: 応用物理, Jg. 55 (1986-06-10), Heft 6, S. 606
    academicJournal
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Synthesis of Diamond Thin Films and Diamond Particles by Thermal CVD Using Organic Compounds / 有機化合物を用いた熱CVD法によるダイヤモンド薄膜と粒子の合成
    Katumi, TAKAHASHI ; Kazuo, TEZUKA ; et al.
    In: 応用物理, Jg. 56 (1987-02-10), Heft 2, S. 247
    academicJournal
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    A Quantitative Investigation of Porosity and Water Content of CVD-Films / CVD 膜の粗密性と吸湿性の定量的検討
    Hiroshi, YANAZAWA ; Mikio, ASHIKAWA ; et al.
    In: 応用物理, Jg. 43 (1974-04-10), Heft 4, S. 330
    academicJournal
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Plasma CVD Technology and Its Applications / プラズマCVD技術と応用
    Yukio, YASUDA ; 幸夫, 安田
    In: 応用物理, Jg. 50 (1981-06-10), Heft 6, S. 638
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Composition control techniques of semiinsulating amorphous silicon nitride films deposited by plasma CVD / プラズマCVD準絶縁性アモルファスシリコン窒化膜の組成制御技術
    Masataka, NARITA ; Yukimi, ICHIKAWA ; et al.
    In: 応用物理, Jg. 71 (2002-07-10), Heft 7, S. 895
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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