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    Inspectability and printability of lines and spaces halftone masks for the advanced DRAM node
    DÜRR, Arndt C ; GUTJAHR, Karsten ; et al.
    In: Photomask technology 2006 (19-22 September, 2006, S. 63490O.1
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    Image degradation due to phase effects in chromeless phase lithography
    BUBKE, Karsten ; SCZYRBA, Martin ; et al.
    In: Photomask technology 2006 (19-22 September, 2006, S. 634913.1
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Determination of spatial CD signatures on photo-masks
    UTZNY, Clemens ; RÖSSIGER, Martin
    In: Photomask technology 2006 (19-22 September, 2006, S. 63490P.1
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -