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    Combining HW-CVD and PECVD techniques to produce a-Si:H films
    FERREIRA, I ; FORTUNATO, E ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 231-235
    Konferenz
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    Cluster-suppressed plasma CVD for deposition of high quality a-Si:H films
    SHIRATANI, Masaharu ; KOGA, Kazunori ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 1-5
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Investigation of scaling-up issues in hot-wire CVD of polycrystalline silicon
    VAN DER WERF, C. H. M ; HARDEMAN, A. J ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 41-45
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    From porous to compact films by changing the onset conditions of HW-CVD process
    FERREIRA, I ; COSTA, M. E. V ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 225-230
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Characterisation of HfO2 deposited by photo-induced chemical vapour deposition
    FANG, Q ; ZHANG, J.-Y ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 391-396
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    VHF plasma processing for in-line deposition systems
    RÜDIGER, J ; BRECHTEL, H ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 16-20
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    The properties of fluoride/glass and fluoride/silicon
    JAE KYUNG, KO ; DO YOUNG, KIM ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 259-265
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Relationship between microstructure and photovoltaic performance in microcrystalline silicon film solar cells fabricated by a high-density microwave plasma
    OHKAWARA, Go ; NAKAJIMA, Masanobu ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 27-32
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Raman spectroscopy of B-doped microcrystalline silicon films
    SALEH, R ; NICKEL, N. H
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 266-269
    Konferenz
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    Properties of a-SiC:H films deposited in high power regime
    AMBROSONE, G ; BALLARINI, V ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 279-283
    Konferenz
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    Preparation of microcrystalline silicon seed-layers with defined structural properties
    VETTED, O ; HÜLSBECK, M ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 46-50
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Power density effects on the growth of microcrystalline silicon-carbon alloys by PECVD
    COSCIA, U ; AMBROSONE, G ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 284-288
    Konferenz
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    Polymorphous silicon deposited in large area reactor at 13 and 27 MHz
    AGUAS, H ; ROCA I. CABARROCAS, P ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 6-10
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Plasma studies under polymorphous silicon deposition conditions
    KHARCHENKO, A. V ; SUENDO, V ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 236-240
    Konferenz
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    Modelling and experimental study of an O2/Ar/tetramethyltin discharge used for the deposition of transparent conductive thin tin oxide films
    MORSCHEIDT, W ; HASSOUNI, K ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 219-224
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Low-temperature epitaxial growth of B doped Si films on Si(1 0 0) and Si(111)
    SCHWARZKOPF, J ; SELLE, B ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 274-278
    Konferenz
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    Low temperature growth of SiO2 on SiC by plasma enhanced chemical vapor deposition for power device applications
    MANDRACCI, P ; FERRERO, S ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 142-146
    Konferenz
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    High rate growth of microcrystalline silicon by VHF-GD at high pressure
    GRAF, U ; MEIER, J ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 37-40
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Development of a numerical simulation tool to study uniformity of large area PECVD film processing
    SANSONNENS, L ; BONDKOWSKI, J ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 21-26
    Konferenz
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    Characterization of polycrystalline SiC layers grown by ECR-PECVD for micro-electro-mechanical systems
    RICCIARDI, C ; BENNICI, E ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 187-190
    Konferenz
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