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    Thin film sulphides and oxides of 3d metals prepared from complex precursors by CVD
    BESSERGENEV, V. G ; PEREIRA, R. J. F ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 9141-9145
    Konferenz
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    Silicon CVD deposition for low cost applications in photovoltaics
    SCHMICH, Evelyn ; SCHILLINGER, Norbert ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 9325-9329
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Polyimide (PI) films by chemical vapor deposition (CVD) : Novel design, experiments and characterization
    PUIG-PEY GONZALEZ, Jaime ; LAMURE, Alain ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 9437-9441
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Phosphane copper(I) complexes as CVD precursors
    ROTH, Nina ; JAKOB, Alexander ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 9089-9094
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Investigation into the selectivity of CVD iron from Fe(CO)5 precursor on various metal and dielectric patterned substrates
    BAIN, M. F ; LOW, Y. H ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 8998-9002
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Comparison of numerical methods for transient CVD simulations
    VAN VELDHUIZEN, S ; VUIK, C ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 8859-8862
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    The preparation of Cu/Al2O3 catalysts via CVD in a fluidized-bed reactor
    NAUMANN D'ALNONCOURT, Raoul ; BECKER, Michael ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 9035-9040
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Multiscale investigation of the influence of surface morphology on thin film CVD
    BARBATO, A ; FIOMCCI, A ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 8884-8887
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Evaluation of a novel fluorine free copper (I) precursor for Cu CVD
    PHONG DINH, TRAN ; DOPPELT, Pascal
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 9066-9070
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Dimethylgold(III) carboxylates as new precursors for gold CVD
    BESSONOV, A. A ; MOROZOVA, N. B ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 9099-9103
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Catalytically enhanced H2-free CVD of transition metals using commercially available precursors
    BAHLAWANE, N ; PREMKUMAR, P. Antony ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 8914-8918
    Konferenz
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    Catalytic effects of production of carbon nanotubes in a thermogravimetric CVD reactor
    KOURAVELOU, K. B ; SOTIRCHOS, S. V ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 9226-9231
    Konferenz
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    CVD-growth of ZnSxSe1-x with subsequent hot isostatic pressing
    GAVRISHCHUK, E. M ; SAVIN, D. V ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 9385-9388
    Konferenz
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    Silicon CVD on powders in fluidized bed : Experimental and multifluid Eulerian modelling study
    CADORET, L ; REUGE, N ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 8919-8923
    Konferenz
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    Preparation of nanocrystalline cubic silicon carbide thin films by hot-wire CVD at various filament-to-substrate distances
    TABATA, Akimori ; KOMURA, Yusuke
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 8986-8990
    Konferenz
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Novel cyclopentadienyl based precursors for CVD of W containing films
    CORREIA ANACLETO, Antony ; BLASCO, Nicolas ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 9120-9124
    Konferenz
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    NIR diode laser spectroscopy of HF and HC1 at multiple points in the atmospheric pressure CVD of tin oxide films
    MARTIN, Philip A ; HOLDSWORTH, Robert J ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 9030-9034
    Konferenz
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    Chlorinated silicon carbide CVD revisited for polycrystalline bulk growth
    CHICHIGNOUD, G ; UCAR-MORAIS, M ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 8888-8892
    Konferenz
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    A novel CVD/CVI reactor with an in-situ sampling apparatus connected to an online GC/MS
    AIJUN, LI ; SCHOCH, Günter ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 8939-8943
    Konferenz
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    Transport issues in focused electron beam chemical vapor deposition
    FEDOROV, Andrei G ; RYKACZEWSKI, Konrad ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 8808-8812
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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