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    Investigation of an upflow cold-wall CVD reactor by gas phase Raman spectroscopy
    PARK, Chinho ; JANG YEON, HWANG ; et al.
    In: Proceedings of the 2nd Asian Conference on Chemical Vapour Deposition, Gyeongju, Korea, May 28-30, 2001, Jg. 409 (2002), Heft 1, S. 88-97
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Highly-conducting indium-tin-oxide transparent films fabricated by spray CVD using ethanol solution of indium (III) chloride and tin (II) chloride
    SAWADA, Yutaka ; KOBAYASHI, Chikako ; et al.
    In: Proceedings of the 2nd Asian Conference on Chemical Vapour Deposition, Gyeongju, Korea, May 28-30, 2001, Jg. 409 (2002), Heft 1, S. 46-50
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Growth kinetics of hydrogenated amorphous silicon carbide films by RF plasma-enhanced CVD using two kinds of source materials
    KANEKO, T ; MIYAKAWA, N ; et al.
    In: Proceedings of the 2nd Asian Conference on Chemical Vapour Deposition, Gyeongju, Korea, May 28-30, 2001, Jg. 409 (2002), Heft 1, S. 74-77
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Density functional study on the adsorption and surface reactions on SiO2 in TiN-CVD using TiCl4 and NH3
    TANAKA, Tatsuo ; NAKAJIMA, Tohru ; et al.
    In: Proceedings of the 2nd Asian Conference on Chemical Vapour Deposition, Gyeongju, Korea, May 28-30, 2001, Jg. 409 (2002), Heft 1, S. 51-57
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Progress in ion-transport inorganic membranes by novel chemical vapor deposition (CVD) techniques
    MENG, G. Y ; SONG, H. Z ; et al.
    In: Proceedings of the 2nd Asian Conference on Chemical Vapour Deposition, Gyeongju, Korea, May 28-30, 2001, Jg. 409 (2002), Heft 1, S. 105-111
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Improved fabrication process for Ru/BST/Ru capacitor by liquid source chemical vapor deposition
    TARUTANI, Masayoshi ; YAMAMUKA, Mikio ; et al.
    In: Proceedings of the 2nd Asian Conference on Chemical Vapour Deposition, Gyeongju, Korea, May 28-30, 2001, Jg. 409 (2002), Heft 1, S. 8-14
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Density functional study on the reactivity of oxidized aluminum surfaces: effects of adsorbed metallic atoms (Au, Cu, Ti, V)
    TANAKA, Tatsuo ; NAKAJIMA, Tohru ; et al.
    In: Proceedings of the 2nd Asian Conference on Chemical Vapour Deposition, Gyeongju, Korea, May 28-30, 2001, Jg. 409 (2002), Heft 1, S. 66-73
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Surface roughness reducing effect of iodine sources (CH3I, C2H5I) on Ru and RuO2 composite films grown by MOCVD
    JAE JEONG, KIM ; DOO HWAN, JUNG ; et al.
    In: Proceedings of the 2nd Asian Conference on Chemical Vapour Deposition, Gyeongju, Korea, May 28-30, 2001, Jg. 409 (2002), Heft 1, S. 28-32
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Optical and structural properties of GaN materials and structures grown on Si by metalorganic chemical vapor deposition
    FENG, Z. C ; ZHANG, X ; et al.
    In: Proceedings of the 2nd Asian Conference on Chemical Vapour Deposition, Gyeongju, Korea, May 28-30, 2001, Jg. 409 (2002), Heft 1, S. 15-22
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Novel strained Si/relaxed SiGe channel PMOSFETs
    CHEN, LI ; GUANGLI, LUO ; et al.
    In: Proceedings of the 2nd Asian Conference on Chemical Vapour Deposition, Gyeongju, Korea, May 28-30, 2001, Jg. 409 (2002), Heft 1, S. 112-115
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    New control method of low deposition temperature limit of metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) by the introduction of organic vapor: Application to SrRuO3 film preparation
    HIGASHI, Noriyuki ; MURAKAMI, Yasushi ; et al.
    In: Proceedings of the 2nd Asian Conference on Chemical Vapour Deposition, Gyeongju, Korea, May 28-30, 2001, Jg. 409 (2002), Heft 1, S. 33-36
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    New control method for low temperature deposition limit of metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) by the introduction of organic vapor-application to ZrO2 film preparation
    HIGASHI, Noriyuki ; MURAKAMI, Yasushi ; et al.
    In: Proceedings of the 2nd Asian Conference on Chemical Vapour Deposition, Gyeongju, Korea, May 28-30, 2001, Jg. 409 (2002), Heft 1, S. 23-27
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Magnetoresistance in carbon micro-coils obtained by chemical vapor deposition
    FUJII, Mitsuhiro ; MATSUI, Makoto ; et al.
    In: Proceedings of the 2nd Asian Conference on Chemical Vapour Deposition, Gyeongju, Korea, May 28-30, 2001, Jg. 409 (2002), Heft 1, S. 78-81
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Laser annealing effect of SiC films prepared by PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition)
    CHO, N. I ; KIM, Y. M ; et al.
    In: Proceedings of the 2nd Asian Conference on Chemical Vapour Deposition, Gyeongju, Korea, May 28-30, 2001, Jg. 409 (2002), Heft 1, S. 1-7
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Ferroelectric properties of SrBi2Ta2O9 thin films with Bi2O3 buffer layer by liquid-delivery metalorganic chemical vapor deposition
    SHIN, W. C ; CHOI, K. J ; et al.
    In: Proceedings of the 2nd Asian Conference on Chemical Vapour Deposition, Gyeongju, Korea, May 28-30, 2001, Jg. 409 (2002), Heft 1, S. 133-137
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Epitaxial growth of ZnO thin films exhibiting room-temperature ultraviolet emission by atmospheric pressure chemical vapor deposition
    KAIYA, Kazuhiko ; OMICHI, Kouji ; et al.
    In: Proceedings of the 2nd Asian Conference on Chemical Vapour Deposition, Gyeongju, Korea, May 28-30, 2001, Jg. 409 (2002), Heft 1, S. 116-119
    Konferenz
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    Encapsulating the electroluminescent phosphor micro-particles using a pulsed metal-organic chemical vapor deposition process in a fluidized bed
    KIM, Jimin ; GUI YOUNG, HAN ; et al.
    In: Proceedings of the 2nd Asian Conference on Chemical Vapour Deposition, Gyeongju, Korea, May 28-30, 2001, Jg. 409 (2002), Heft 1, S. 58-65
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Effect of the neutral ligand (L) on the characteristics of hexafluoroacetylacetonate (hfac)Cu(I)-L precursor and on the copper deposition process
    CHOI, Kyeong-Keun ; RHEE, Shi-Woo
    In: Proceedings of the 2nd Asian Conference on Chemical Vapour Deposition, Gyeongju, Korea, May 28-30, 2001, Jg. 409 (2002), Heft 1, S. 147-152
    Konferenz
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Decomposition behaviors of bis(N-alkoxy-p-ketoiminate) titanium complexes in the depositions of titanium oxide and barium strontium titanate films
    SUNG HO, HONG ; SUN KWON, RIM ; et al.
    In: Proceedings of the 2nd Asian Conference on Chemical Vapour Deposition, Gyeongju, Korea, May 28-30, 2001, Jg. 409 (2002), Heft 1, S. 82-87
    Konferenz
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    Atomic layer deposition (ALD): from precursors to thin film structures
    LESKELÄ, Markku ; RITALA, Mikko
    In: Proceedings of the 2nd Asian Conference on Chemical Vapour Deposition, Gyeongju, Korea, May 28-30, 2001, Jg. 409 (2002), Heft 1, S. 138-146
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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