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    Nanometer scale linewidth control during etching of polysilicon gates in high-density plasmas
    JOUBERT, O ; PARGON, E ; et al.
    In: Proceedings of the Symposium and Summer School on: Nano and Giga Challenges in Microelectronics Research and Opportunities in Russia, Jg. 69 (2003), Heft 2-4, S. 350-357
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    Ultrathin HfO2 films grown on silicon by atomic layer deposition for advanced gate dielectrics applications
    GUSEV, E. P ; CABRAL, C. JR ; et al.
    In: Proceedings of the Symposium and Summer School on: Nano and Giga Challenges in Microelectronics Research and Opportunities in Russia, Jg. 69 (2003), Heft 2-4, S. 145-151
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Thermal response of MOCVD hafnium silicate
    LYSAGHT, Patrick ; FORAN, Brendan ; et al.
    In: Proceedings of the Symposium and Summer School on: Nano and Giga Challenges in Microelectronics Research and Opportunities in Russia, Jg. 69 (2003), Heft 2-4, S. 182-189
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -