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    The application of phase grating to CLM technology for the sub-65nm node optical lithography [5853-55] : Photomask and next-generation lithography mask technology XII
    Yoon, G. S. ; Kim, S. H. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 5853 (2005), Heft 2, S. 703-713
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Feasibility studies of ArF chromeless mask (CLM) for sub-80-nm era [5377-129] : Optical microlithography
    Eom, T. S. ; Lim, C. M. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 5377 (2004), Heft 2, S. 1287-1296
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Evaluation of ArF CLM in the sub-100-nm DRAM cell [5040-24] : Optical microlithography
    Lee, J. H. ; Chung, D. H. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 5040 (2003), Heft 1, S. 251-260
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    The sensitivity of NPP to climate controls in northern China estimated by CLM model coupled with RS and GIS technology [4890-71] : Ecosystems dynamics, ecosystem-society interactions, and remote sensing applications for semi-arid and arid land
    Gao, Z. ; Gao, W. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 4890 (2002), Heft 1, S. 299-305
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Development of mask-making process for CLM manufacturing technology [4754-44] : Photomask and next-generation lithography mask technology
    Park, J. H. ; Chung, D. H. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 4754 (2001), S. 727-736
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    The application of phase grating to CLM technology for the sub-65nm node optical lithography [5853-55] : Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII
    Yoon, G. S. ; Kim, S. H. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 5853 (2005), Heft 2, S. 703-713
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Feasibility studies of ArF chromeless mask (CLM) for sub-80-nm era [5377-129] : Optical Microlithography XVII
    Eom, T. S. ; Lim, C. M. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, 2004, Heft 5377, S. 1287-1296
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Evaluation of ArF CLM in the sub-100-nm DRAM cell [5040-24] : Optical Microlithography XVI
    Lee, J. H. ; Chung, D. H. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, 2003, Heft 5040, S. 251-260
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    The sensitivity of NPP to climate controls in northern China estimated by CLM model coupled with RS and GIS technology [4890-71] : Ecosystems Dynamics, Ecosystem-Society Interactions, and Remote Sensing Applications for Semi-Arid and Arid Land
    Gao, Z. ; Gao, W. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 1 (2003), Heft 4890, S. 299-305
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Development of mask-making process for CLM manufacturing technology [4754-44] : Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX
    Park, J. H. ; Chung, D. H. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, 2002, Heft 4754, S. 727-736
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    The generation of China land surface datasets for CLM [5983-76] : Remote sensing for environmental monitoring, GIS applications, and geology
    Li, H. ; Peng, H. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 5983 (2005), S. 59831W
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Numerical simulation by the Common Land Model (CLM) of the soil moisture over China during the summer of 2006 [7083-48] : Remote Sensing and Modeling of Ecosystems for Sustainability V
    Zou, L. ; Gao, W. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 7083 (2008), S. 7083 14
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    The generation of China land surface datasets for CLM [5983-76]
    Li, H. ; Peng, H. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 5983 (2005), S. 59831W
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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