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    Pushing SRAM densities beyond 0.13-mum technology in the year 2000 [4186-66] : Photomask technology; 20th Annual BACUS symposium on photomask technology
    Bula, O. ; Mih, R. D. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 4186 (2001), S. 601-611
    Konferenz
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    Lithographic implications for Cu/low-k integration [3679-89] : Optical microlithography
    Mih, R. D. ; Chen, N. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, , Heft E 3679, S. 827-838
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Polymer-bound sensitizer in i-line resist formulations [3333-141] : Advances in resist technology and processing
    Jagannathan, P. ; DeWan, C. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, , Heft E 3333, S. 1258-1271
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Phase-shift focus monitor applications to lithography tool control [3051-100] : Optical microlithography
    Wheeler, D. C. ; Solecky, E. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, , Heft E 3051, S. 225-235
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    How focus budgets are spent: limitations of advanced i-line lithography [2726-19] : Optical microlithography
    Grassmann, A. ; Mih, R. D. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, , Heft E 2726, S. 386-397
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Simulations and experiments with the phase-shift focus monitor [2726-16] : Optical microlithography
    Brunner, T. A. ; Mih, R. D.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, , Heft E 2726, S. 236-243
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Using the focus monitor test mask to characterize lithographic performance [2440-85] : Optical/laser microlithography VIII
    Mih, R. D. ; Martin, A. L. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, , Heft E 2440, S. 657-667
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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