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    Opto-WLP for CMOS Imaging Sensors.
    In: Semiconductor International, Jg. 29 (2006-12-01), Heft 13, S. SP10- (3S.)
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    Ge Epitaxy on Si: An Enabling High-Performance CMOS Platform.
    In: Semiconductor International, Jg. 29 (2006-10-01), Heft 11, S. 67-69
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    Yale's T.P. Ma Proposes Unipolar CMOS.
    In: Semiconductor International, Jg. 31 (2008-11-01), Heft 13, S. 19-20
    Online serialPeriodical
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    From Microphones to Photonics: Leveraging CMOS.
    In: Semiconductor International, Jg. 29 (2006-09-01), Heft 10, S. 28-28
    Online serialPeriodical
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    Heterogeneous CMOS Gaining Momentum.
    In: Semiconductor International, Jg. 31 (2008-02-01), Heft 2, S. 16-16
    Online serialPeriodical
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    Solid-Source Delivery System Enables Hafnium-Based Gate Dielectrics.
    In: Semiconductor International, Jg. 31 (2008-04-01), Heft 6, S. 24-30
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    Transistor Gate Dielectric: Physics, Processes and Characterization Evolve.
    In: Semiconductor International, Jg. 29 (2006-10-01), Heft 11, S. 52-55
    Online serialPeriodical
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    SONOS Eases Non-Volatile Memory Integration in SoC.
    In: Semiconductor International, Jg. 30 (2007-11-01), Heft 12, S. 49-51
    Online serialPeriodical
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    IMEC Reports Progress on High-k/Metal Gates.
    In: Semiconductor International, Jg. 31 (2008), Heft 1, S. 20-20
    Online serialPeriodical
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    Reliability Fundamentals at 45 nm.
    In: Semiconductor International, Jg. 29 (2006-10-01), Heft 11, S. 34-34
    Online serialPeriodical
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    Yield, Surface Prep for Nano Devices.
    In: Semiconductor International, Jg. 31 (2008-04-01), Heft 6, S. 80-80
    Online serialPeriodical
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    Getting a Handle on Variability.
    In: Semiconductor International, Jg. 30 (2007-11-01), Heft 12, S. 26-26
    Online serialPeriodical
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    Intel finalizes 130 nm, unveils new prototype.
    Singer, Peter
    In: Semiconductor International, Jg. 24 (2001), Heft 1, S. 15-15
    Online serialPeriodical
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Addressing Gate Leakage With Reengineered Silicon.
    In: Semiconductor International, Jg. 30 (2007-03-01), Heft 3, S. 49-51
    Online serialPeriodical
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    Alfred J. van Roosmalen, Philips Semiconductors.
    In: Semiconductor International, Jg. 29 (2006-10-01), Heft 11, S. 21-23
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    Gilbert Declerck, IMEC President & CEO.
    In: Semiconductor International, Jg. 30 (2007), Heft 1, S. 21-22
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    Front-End Advances Strengthen Performance.
    In: Semiconductor International, Jg. 29 (2006-06-15), Heft 7, S. 32-33
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    Yield Management Executive Viewpoints.
    In: Semiconductor International, Jg. 29 (2006-06-15), Heft 7, S. 50-51
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    Qualcomm's Nowak: 3-D Faces Cost Issues.
    In: Semiconductor International, Jg. 32 (2009-05-01), Heft 12, S. 4-4
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    Metrology in the Nanoelectronics Era.
    In: Semiconductor International, Jg. 29 (2006-11-01), Heft 12, S. 92-92
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