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    Novel spin-on metal hardmask materials for filling applications
    Cho, Joonyeon ; Wolfer, Elizabeth ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2014-03-27
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    A chemical underlayer approach to mitigate shot noise in EUV contact hole patterning
    Padmanaban, Munirathna ; Cho, Joonyeon ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2014-03-27
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Pattern collapse mitigation strategies for EUV lithography
    Wu, Chung-hsi J. ; Goldfarb, Dario L. ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2012-03-29
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Manufacturability issues with double patterning for 50-nm half-pitch single damascene applications using RELACS shrink and corresponding OPC
    Maaike Op de Beeck ; Jan Van Olmen ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2007-03-16
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Spin-on metal oxide materials with high etch selectivity and wet strippability
    Her, YoungJun ; Hong, SungEun ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2016-03-25
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    New spin-on metal hardmask materials for lithography processes
    Cho, Joonyeon ; Mckenzie, Douglas ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2013-03-29
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Helmet-mounted sight system ODEN: the simple solution
    Friberg, Nicklas
    In: SPIE Proceedings, 1997-06-18
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
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