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    Flexible optical-infrared metafilter
    Brueckner, Jean-Baptiste ; Brissonneau, Vincent ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2014-02-19
    Online unknown
    Zugriff:
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    Wie komme ich dran?
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    Assessment of different simplified resist models
    Fuard, David ; Besacier, M. ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2002-07-15
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Towards new plasma technologies for 22nm gate etch processes and beyond
    Posseme, Nicolas ; Vallier, Laurent ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2012-03-29
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Real-time profile shape reconstruction using dynamic scatterometry
    Soulan, Sébastien ; Besacier, Maxime ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2007-03-16
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Process window OPC verification: dry versus immersion lithography for the 65nm node
    Belledent, Jerome ; Schiavone, Patrick ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2006-03-10
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Liquid immersion lithography at 193 nm using a high-NA achromatic interferometer
    Charley, Anne-Laure ; Lartigue, Olivier ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2006-03-10
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -