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A simple approach to solving multi-response quality characteristic problems in CMOS ion implantationIn: The International Journal of Advanced Manufacturing Technology, Jg. 28 (2006-03-01), Heft 5-6, S. 592-595Online academicJournalZugriff:
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In: The International Journal of Advanced Manufacturing Technology, Jg. 33 (2007-05-01), Heft 1-2, S. 191-197Online academicJournalZugriff:
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In: The International Journal of Advanced Manufacturing Technology, Jg. 38 (2008-08-01), Heft 5-6, S. 536-542Online academicJournalZugriff: