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    Status of Cat-CVD (Hot-Wire CVD) research in Europe
    Schropp, R.E.I
    In: Thin Solid Films, Jg. 395 (2001-09-03), Heft 1-2, S. 17-24
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    Status of Cat-CVD (Hot Wire CVD) research in the United States
    Mahan, A.H.
    In: Thin Solid Films, Jg. 395 (2001-09-03), Heft 1-2, S. 12-16
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    Charge-trapping defects in Cat-CVD silicon nitride films
    Umeda, T ; Mochizuki, Y ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 395 (2001-09-03), Heft 1-2, S. 266-269
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Hot-wire CVD growth simulation for thickness uniformity
    Sali, Jaydeep V. ; Patil, S.B. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 395 (2001-09-03), Heft 1-2, S. 66-70
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    Identification and gas phase kinetics of radical species in Cat-CVD processes of SiH4
    Nozaki, Yoshitaka ; Kitazoe, Makiko ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 395 (2001-09-03), Heft 1-2, S. 47-50
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    Summary of research in NEDO Cat-CVD project in Japan
    Matsumura, Hideki
    In: Thin Solid Films, Jg. 395 (2001-09-03), Heft 1-2, S. 1-11
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    High-stability hydrogenated amorphous silicon films for light-soaking prepared by catalytic CVD at high deposition rates
    Itoh, Masaya ; Ishibashi, Yoriko ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 395 (2001-09-03), Heft 1-2, S. 138-141
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    Preparation of SiNxpassivation films for PZT ferroelectric capacitors at low substrate temperatures by catalytic CVD
    Minamikawa, Toshiharu ; Yonezawa, Yasuto ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 395 (2001-09-03), Heft 1-2, S. 284-287
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Development of Cat-CVD apparatus — a method to control wafer temperatures under thermal influence of heated catalyzer
    Karasawa, Minoru ; Masuda, Atsushi ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 395 (2001-09-03), Heft 1-2, S. 71-74
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Growth mechanisms and structural properties of microcrystalline silicon films deposited by catalytic CVD
    Niikura, C. ; Kim, S.Y. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 395 (2001-09-03), Heft 1-2, S. 178-183
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Influence of a-Si:H deposition by catalytic CVD on transparent conducting oxides
    Imamori, Kensaku ; Masuda, Atsushi ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 395 (2001-09-03), Heft 1-2, S. 147-151
    serialPeriodical
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    A Cat-CVD Si3N4film study and its application to the ULSI process
    Uchiyama, Yuji ; Masuda, Atsushi ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 395 (2001-09-03), Heft 1-2, S. 275-279
    serialPeriodical
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    Electronic states and the light-induced metastability in hydrogenated amorphous silicon prepared by hot-wire CVD
    Han, Daxing ; Yue, Guozhen ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 395 (2001-09-03), Heft 1-2, S. 134-137
    serialPeriodical
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Projective phase diagrams for CVD diamond growth from C–H and C–H–O systems
    Liu, Zhi-Jie ; Wei Zhang, David ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 368 (2000-06-15), Heft 2, S. 253-256
    serialPeriodical
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Highly conductive transparent F-doped tin oxide films were prepared by photo-CVD and thermal-CVD
    Ishida, Tadashi ; Tabata, Osamu ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 281 (1996-08-01), Heft 1-2, S. 228-231
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Influence of gas supply and filament geometry on the large-area deposition of amorphous silicon by hot-wire CVD
    Ledermann, Andrea ; Weber, Urban ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 395 (2001-09-03), Heft 1-2, S. 61-65
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Growth of device quality p-type μc-Si:H films by hot-wire CVD for a-Si pin and c-Si heterojunction solar cells
    Mukherjee, C ; Weber, U ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 395 (2001-09-03), Heft 1-2, S. 310-314
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Photoluminescent, wide-bandgap a-SiC:H alloy films deposited by Cat-CVD using acetylene
    Kumbhar, Alka ; Patil, Samadhan B ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 395 (2001-09-03), Heft 1-2, S. 244-248
    serialPeriodical
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Fundamental properties of ECR plasma CVD and hydrogen-induced low temperature Si epitaxy
    Sasaki, Kimihiro
    In: Thin Solid Films, Jg. 395 (2001-09-03), Heft 1-2, S. 225-229
    serialPeriodical
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Electrical transport properties of microcrystalline silicon thin films prepared by Cat-CVD
    Liu, F ; Zhu, M ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 395 (2001-09-03), Heft 1-2, S. 97-100
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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