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    Advantage of plasma-less deposition in Cat-CVD to the performance of electronic devices
    Ohdaira, Keisuke ; Nishizaki, Shogo ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 519 (2011-05-01), S. 4568-4570
    Online unknown
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    Hot-wire CVD amorphous Si materials for solar cell application
    Wang, Qi
    In: Thin Solid Films, Jg. 517 (2009-04-01), S. 3570-3574
    Online unknown
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    Silicon surface passivation by hot-wire CVD Si thin films studied by in situ surface spectroscopy
    Jjh Joost Gielis ; van de Mcm Richard Sanden ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 517 (2009), Heft 12, S. 3456-3460
    Online unknown
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    Photo-carrier transport in microcrystalline silicon films prepared by hot-wire CVD
    Murata, Kenji ; Shimakawa, Koichi ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 516 (2008), S. 572-575
    Online unknown
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    GaN-based FETs using Cat-CVD SiN passivation for millimeter-wave applications
    Matsui, Toshiaki ; Higashiwaki, Masataka ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 516 (2008), S. 548-552
    Online unknown
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    ULVAC research and development of Cat-CVD applications
    Ishikawa, Michio ; Masamichi, Harada ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 516 (2008), S. 541-544
    Online unknown
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    Cat-CVD SiN passivation films for OLEDs and packaging
    Matsuo, Naoto ; Umemoto, Hironobu ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 516 (2008), S. 553-557
    Online unknown
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    Recent situation of industrial implementation of Cat-CVD technology in Japan
    Matsumura, Hideki ; Ohdaira, Keisuke
    In: Thin Solid Films, Jg. 516 (2008), S. 537-540
    Online unknown
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  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Plasma CVD reactor with two-microwave oscillators for diamond film synthesis
    Nagatsu, Masaaki ; Maeda, J. ; et al.
    In: Thin Solid Films, 2006-05-01, S. 617-621
    Online unknown
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  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Hard coatings by plasma CVD on polycarbonate for automotive and optical applications
    Kruse, K. ; Schmauder, T. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 502 (2006-04-01), S. 270-274
    Online unknown
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    Plasma CVD on the inner surface of a microchannel
    Suzuki, Masaaki ; Yoshizawa, H. ; et al.
    In: Thin Solid Films, 2006, S. 123-127
    Online unknown
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    Hot wire CVD deposition of nanocrystalline silicon solar cells on rough substrates
    Karine H. M. van der Werf ; Li, H. B. T. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 517 (2009-04-01), S. 3476-3480
    Online unknown
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Poly-Si films with long carrier lifetime prepared by rapid thermal annealing of Cat-CVD amorphous silicon thin films
    Torikai, Tetsuya ; Nakajima, Kazuo ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 516 (2008), S. 600-603
    Online unknown
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Progress in a-Si:H/c-Si heterojunction emitters obtained by Hot-Wire CVD at 200 °C
    Muñoz, Delfina ; P. Roca i Cabarrocas ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 516 (2008), S. 761-764
    Online unknown
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    High efficiency microcrystalline silicon solar cells with Hot-Wire CVD buffer layer
    Klein, Stefan ; Carius, R. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 516 (2008), S. 728-732
    Online unknown
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Present status and future feasibility for industrial implementation of Cat-CVD (Hot-Wire CVD) technology
    Masuda, Atsushi ; Umemoto, Hironobu ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 501 (2006-04-01), S. 58-60
    Online unknown
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Development of microcrystalline silicon carbide window layers by hot-wire CVD and their applications in microcrystalline silicon thin film solar cells
    Finger, Friedhelm ; Carius, Reinhard ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 519 (2011-05-01), S. 4523-4526
    Online unknown
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Sputter-assisted plasma CVD of polymer-like amorphous CN :H films using supermagnetron plasma
    Kinoshita, Haruhisa ; Ikuta, Ryo ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 515 (2007-03-01), S. 4121-4124
    Online unknown
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    High-quality ZnO films prepared on Si wafers by low-pressure MO-CVD
    Watanabe, H. ; Suzuki, Takafumi ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 433 (2003-06-01), S. 131-134
    Online unknown
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Coverage properties of silicon nitride film prepared by the Cat-CVD method
    Kitazoe, Makiko ; Hayama, M. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 430 (2003-04-01), S. 165-169
    Online unknown
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