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    Production of crystalline Si nano-clusters using pulsed H2+SiH4 VHF discharges
    KAKEYA, Tomohide ; KOGA, Kazunori ; et al.
    In: Proceedings of the joint meeting of the 7th APCPST (Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology) and the 17th SPSM (Symposium on Plasma Science for Materials), Fukuoka, Japan, June 29-July 2, 2004, Jg. 506-07 (2006), S. 288-291
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    Large area VHF plasma production using a ladder-shaped electrode
    MASHIMA, H ; YAMAKOSHI, H ; et al.
    In: Proceedings of the joint meeting of the 7th APCPST (Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology) and the 17th SPSM (Symposium on Plasma Science for Materials), Fukuoka, Japan, June 29-July 2, 2004, Jg. 506-07 (2006), S. 512-516
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    High temperature line electrode assembly for continuous substrate flow VHF PECVD
    SCHADE, K ; STAHR, F ; et al.
    In: Advanced coatings on glass and plastics for large-area or high-volume products, Jg. 502 (2006), Heft 1-2, S. 59-62
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    High-deposition-rate of microcrystalline silicon solar cell by using VHF PECVD
    NAKANO, Youji ; GOYA, Saneyuki ; et al.
    In: Proceedings of the joint meeting of the 7th APCPST (Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology) and the 17th SPSM (Symposium on Plasma Science for Materials), Fukuoka, Japan, June 29-July 2, 2004, Jg. 506-07 (2006), S. 33-37
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Development of large-area a-Si:H films deposition using controlled VHF plasma
    KAWAMURA, K ; MASHIMA, H ; et al.
    In: Proceedings of the joint meeting of the 7th APCPST (Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology) and the 17th SPSM (Symposium on Plasma Science for Materials), Fukuoka, Japan, June 29-July 2, 2004, Jg. 506-07 (2006), S. 22-26
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    VHF plasma processing for in-line deposition systems
    RÜDIGER, J ; BRECHTEL, H ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 16-20
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Growth of crystallized Ge films from VHF inductively-coupled plasma of H2-diluted GeH4
    SAKATA, T ; MAKIHARA, K ; et al.
    In: Proceedings of the International Symposium on Dry Process (DPS 2005), Jeju, Korea, November 28-30, Jg. 515 (2007), Heft 12, S. 4971-4974
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Characteristics of VHF excited hydrogen plasmas using a ladder-shaped electrode
    TAKEUCHI, Y ; KAWASAKI, I ; et al.
    In: Proceedings of the 5th Asia-Pacific Conference on Plasma Science & Technology and the 13th Symposium on Plasma Science for Materials, Dalian, China, 10-13 September, 2000, Jg. 390 (2001), Heft 1-2, S. 217-221
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    High rate growth of microcrystalline silicon by VHF-GD at high pressure
    GRAF, U ; MEIER, J ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 37-40
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Control of large area VHF plasma produced at high pressure
    Nishimiya, Tatsuyuki ; Yamane, Tsukasa ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 519 (2011), Heft 20, S. 6931-6934
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Modeling and experiments of high-pressure VHF SiH4/H2 discharges for higher microcrystalline silicon deposition rate : Advanced materials and concepts for photovoltaics
    Zhang, X. D. ; Zhang, F. R. ; et al.
    In: THIN SOLID FILMS, Jg. 516 (2008), Heft 20, S. 6829-6833
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Large area VHF plasma production by a balanced power feeding method : Symposium on plasma science for materials(SPSM-19)
    Nishimiya, T. ; Takeuchi, Y. ; et al.
    In: THIN SOLID FILMS, Jg. 516 (2008), Heft 13, S. 4430-4434
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Nucleation study of hydrogenated microcrystalline silicon (μc-Si:H) films deposited by VHF-ICP : International symposium on dry process(DPS 2006)
    Karakawa, T. ; Higashi, S. ; et al.
    In: THIN SOLID FILMS, Jg. 516 (2008), Heft 11, S. 3497-3501
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Large area VHF plasma sources : Coatings on glass: ICCG5 : Advanced coatings on glass & plastics for large-area or high-volume products
    Takagi, T. ; Ueda, M. ; et al.
    In: THIN SOLID FILMS, Jg. 502 (2006), Heft 1-2, S. 50-54
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    VHF PECVD microcrystalline silicon: from material to solar cells : Thin film and nano-structured materials for photovoltaics
    Veneri, P. D. ; Mercaldo, L. V. ; et al.
    In: THIN SOLID FILMS, Jg. 451-452 (2004), S. 269-273
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Preparation of large uniform amorphous silicon films by VHF-PECVD using a ladder-shaped antenna : Symposium on plasma science for materials; (SPSM-12)
    Takeuchi, Y. ; Nawata, Y. ; et al.
    In: THIN SOLID FILMS, Jg. 386 (2001), Heft NO 2, S. 133-136
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Low temperature high-rate growth of crystalline Ge films on quartz and crystalline Si substrates from VHF inductively-coupled plasma of GeH 4
    Sakata, Tsutomu ; Makihara, Katsunori ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 517 (2008), Heft 1, S. 216-218
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Modeling and experiments of high-pressure VHF SiH 4/H 2 discharges for higher microcrystalline silicon deposition rate
    Zhang, X.D. ; Zhang, F.R. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 516 (2008), Heft 20, S. 6829-6833
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Growth of crystallized Ge films from VHF inductively-coupled plasma of H 2-diluted GeH 4
    Sakata, T. ; Makihara, K. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 515 (2007), Heft 12, S. 4971-4974
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    VHF PECVD microcrystalline silicon: from material to solar cells
    DELLI VENERI, P ; MERCALDO, L. V ; et al.
    In: Proceedings of Symposium D on Thin Film and Nano-Structured Materials for Photovoltaics, Jg. 451-52 (2004), S. 269-273
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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