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    Investigation on the control of silicon whisker generation during dichlorosilane-based WSi deposition process
    Choi, Hoomi ; Oh, Myeonghun ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 521 (2012-10-30), S. 201-205
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Formation of WSi-based ohmic contacts to n-type GaAs
    OKU, T ; FURUMAI, M ; et al.
    In: Thin solid films, Jg. 300 (1997), Heft 1-2, S. 218-223
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Effect of substrate on phase transformation kinetics of WSi~x films : International conference on materials for advanced technologies; ICMAT 2003
    Bharat, S. ; Sahoo, P. K. ; et al.
    In: THIN SOLID FILMS, Jg. 462/463 (2004), S. 127-131
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Kinetic study of chemical vapor deposition of WSi x films from WF 6 and SiH 2Cl 2: Determination of molecular size and reactivity of gas species
    Saito, Takeyasu ; Shimogaki, Yukihiro ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 513 (2006), Heft 1, S. 36-42
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    WSi~x thin films for resistors
    Backhouse, C. J. ; Este, G. ; et al.
    In: THIN SOLID FILMS, Jg. 311 (1997), Heft 1/2, S. 299-303
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    Dieser Titel kann aus lizenzrechtlichen Gründen nur im Campusnetz oder nach Anmeldung angezeigt werden!
    academicJournal
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    Investigation on the control of silicon whisker generation during dichlorosilane-based WSi deposition process
    Kim, Taesung ; Choi, Hoomi ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 521 (2012-10-01), S. 201-205
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Kinetic study of chemical vapor deposition of WSi<subscript> x </subscript> films from WF<subscript>6</subscript> and SiH<subscript>2</subscript>Cl<subscript>2</subscript>: Determination of molecular size and reactivity of gas species
    Saito, Takeyasu ; Shimogaki, Yukihiro ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 513 (2006-08-14), Heft 1/2, S. 36-42
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Kinetic study of chemical vapor deposition of WSi x films from WF6 and SiH2Cl2: Determination of molecular size and reactivity of gas species
    Saito, Takeyasu ; Shimogaki, Yukihiro ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 513 (2006-08-14), Heft 1/2, S. 36-42
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Formation of WSi-based ohmic contacts to n-type GaAs
    Murakami, Masanori ; Furumai, Masaki ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 300 (1997-05-01), S. 218-222
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    academicJournal
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Effect of excess silicon on behavior of LPCVD WSi x films on silicon
    Joshi, R.V. ; Kim, Y.H. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 163 (1988), S. 267-272
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Effects of grain boundaries on the resistivity of co-sputtered WSi 2 films
    Campbell, D.R. ; Mader, S. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 93 (1982), Heft 3, S. 341-346
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    The effect of substrate orientation on WSi 2 formation
    Singh, Awatar ; Khokle, W.S. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 238 (1994), Heft 1, S. 155-157
    academicJournal
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    WSi X thin films for resistors
    Backhouse, C.J ; Este, G ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 311 (1997), Heft 1, S. 299-303
    academicJournal
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    A study on WSi 2 thin films, formed by the reaction of tungsten with solid or liquid silicon, by rapid thermal annealing
    Döscher, M. ; Pauli, M. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 239 (1994), Heft 2, S. 251-258
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Kinetics of WSi 2 formation at low and high temperatures
    Lajzerowicz, J., Jr. ; Torres, J. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 140 (1986), Heft 1, S. 23-28
    academicJournal
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    WSi 2 interconnections for very-large-scale integrated circuits
    Saraswat, K.C.
    In: Thin Solid Films, Jg. 83 (1981), Heft 2, S. 143-144
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    High energy pulsed laser deposition of ohmic tungsten contacts on silicon at room temperature.
    Dellasega, D. ; Bollani, M. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 666 (2018-11-30), S. 121-129
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Reactive magnetron sputtering of tungsten target in krypton/trimethylboron atmosphere.
    Magnuson, Martin ; Tengdelius, Lina ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 688 (2019-10-31), S. N.PAG
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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