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    Détermination de l'état de contraintes résiduelles dans des couches auto-supportées de diamant-CVD par diffraction de rayons X
    Residual stresses determination of self-supported cvd-diamond layers by X-ray diffraction
    In: Rayons X et Matière : RX 99, Jg. 10 (2000), Heft 10, S. Pr10- (162S.)
    Konferenz
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    Etude de la thermodiffusion binaire dans un réacteur CVD à paroi froide / Study of binary thermal diffusion in a cold wall CVD reactor
    CHEHOUANI, H ; BELGHIT, A ; et al.
    In: Entropie (Paris), Jg. 35 (1999), Heft 216, S. 14-20
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Une nouvelle technologie d'appareils de dépôt chimique en phase vapeur. Partie 2 : Modélisation du dépôt de silicium pur à partir de silane et de silicium dopé in situ au phosphore / A new technology for CVD reactors. Part 2 : Modeling of polycristalline silicon deposition from silane and in situ phosphorus doped polysilicon deposition
    VERGNES, Huges ; DUVERNEUIL, Patrick ; et al.
    In: Canadian journal of chemical engineering, Jg. 78 (2000), Heft 4, S. 803-814
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Dépôt chimique CVD de silicium dopé in situ au phosphore. Partie 2 : Analyse théorique et modélisation / CVD of in situ phosphorus doped silicon. Part 2: theoretical analysis and modeling
    TOUNSI, A ; SCHEID, E ; et al.
    In: Canadian journal of chemical engineering, Jg. 74 (1996), Heft 6, S. 950-959
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Dépôt chimique CVD de silicium dopé in situ au phosphore. Partie 1 : Etude expérimentale / CVD of in situ phosphorus doped silicon. Part 1: experimental study
    TOUNSI, A ; SCHEID, E ; et al.
    In: Canadian journal of chemical engineering, Jg. 74 (1996), Heft 6, S. 941-949
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Une nouvelle technologie d'appareils de dépôt chimique en phase vapeur. Partie 1 : Présentation et analyse des résultats expérimentaux / A new technology for CVD reactors. Part 1 : Presentation and analysis of experimental results
    VERGNES, Hugues ; DUVERNEUIL, Patrick ; et al.
    In: Canadian journal of chemical engineering, Jg. 78 (2000), Heft 4, S. 793-802
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Influence des principaux paramètres opératoires sur le dépôt de silicium à partir de silane par CVD en lit fluidisé en vue de limiter les problèmes d'agglomération / Influence of the operating conditions on the silicon deposition from silane with fluidized bed chemical vapour deposition to limit the agglomeration problems
    RODRIGUEZ RUVALCABA, J. Ramiro ; CAUSSAT, Brigitte ; et al.
    In: Canadian journal of chemical engineering, Jg. 78 (2000), Heft 5, S. 955-963
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Corrélations entre conditions d'élaboration et microstructure de dépôts CVD. Partie 1 : Position du problème et bilan des connaissances cinétiques / Correlations between operating conditions and microstructure of LPCVD films. Part 1 : Position of the problem and review of kinetic knowledge
    CAUSSAT, B ; DOLLET, A ; et al.
    In: Entropie (Paris), Jg. 35 (1999), Heft 216, S. 4-13
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Caractérisation de dépôts CVD de diamant par analyse d'images / Image analysis to characterize CVD diamond deposits
    BARRAT, S ; HAZOTTE, A ; et al.
    In: Analyse d'images et reconnaissance de formes en matériaux, Jg. 97 (2000), Heft 2
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Elaboration d'une double couche B4C-SiC sur substrats de graphite par CVD réactive : prévisions thermodynamiques et résultats expérimentaux
    Elaboration of a B4C-SiC double layer on graphite substrates by reactive CVD: thermodynamical previsions and experimental results
    In: Journal of alloys and compounds, Jg. 185 (1992), Heft 1, S. 121-144
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Elaboration de films de diamant texturés par C.V.D. assistée par plasma Micro-onde : La maîtrise des conditions de dépôt permettant le contrôle de la qualité des films : Applications industrielles du chauffage par micro-ondes / Textured diamond films using microwave plasma-enhanced CVD
    SILVA, F ; CHIRON, A ; et al.
    In: REE. Revue de l'électricité et de l'électronique, 1996, Heft 6, S. 35-39
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Le diamant CVD pour les dispositifs à ondes acoustiques de surface (SAW) / CVD diamond for surface acoustic wave devices (SAW)
    ELMAZRIA, O ; ASSOUAR, M. B
    In: Le Vide (1995), Jg. 56 (2001), Heft 300
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Approche thermodynamique de la germination et de la morphologie cristalline. Effet de texture lors de la formation d'un film mince. Application au dépôt de diamant CVD / Thermodynamic analysis of cristal nucleation and morphology. Texture effect during thin films growth. CVD diamond
    BARRAT, S
    In: Le Vide (1995), Jg. 56 (2001), Heft 300
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Applications des dépôts CVD et PACVD pour les outillages de découpage et d'emboutissage / Applications of CVD and PACVD for cutting and deep drawing tools
    DELAIRE, V ; BORRON, I
    In: Les revêtements d'outillages de presses : applications et recommandations (Senlis, 8 octobre 1998), 1998, S. 47-54
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Applications des depots CVD et PACVD pour les outillages de découpage et d'emboutissage
    DELAIRE, V ; BORRON, I
    In: Matériaux pour outillages de travail à froid sur presses (Senlis, 16 novembre 1999), 1999, S. 45-53
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Mise au point d'un système d'analyse in situ par spectrométrie de masse de la phase gazeuse pour le dépôt chimique en phase vapeur / On site gas mass spectrometer set-up for CVD reactor
    THOMAS, N ; BLANQUET, E
    In: Perméabilité - Etanchéité, Jg. 51 (1995), Heft 278
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Optimisation de la fabrication de films et de membranes en diamant par méthode CVD assistée par plasma micro-onde
    Optimization of diamond film and membrane manufacturing by microwave plasma assisted CVD method
    In: Le Vide (1995), Jg. 51 (1995), Heft 276
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Performances obtenues sur des outils de presses grâce à la combinaison de dépôts et d'opérations de type PVD, CVD, de trempe à but dimensionnel et de montage d'outil / Performances gained on press tools owing to the combination of deposition and processings of the type of PVD, CVD, dimensional aimed quenching and of tool assembly
    KELLER, J ; LE BIHAN, J. C ; et al.
    In: Les revêtements d'outillages de presses : applications et recommandations (Senlis, 8 octobre 1998), 1998, S. 55-71
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Performances des revêtements (PVD et CVD) sur les outils d'emboutissage et de découpe / Coating performances (PVD and CVD) on the deep drawing and cutting tools
    DIMAT, P. B
    In: Les revêtements d'outillages de presses : applications et recommandations (Senlis, 8 octobre 1998), 1998, S. 37-46
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Preparación de recubrimientos cerámicos mediante técnicas de CVD
    Preparation of ceramic coatings by CVD techniques
    In: Boletín de la Sociedad Española de Cerámica y Vidrio, Jg. 37 (1998), Heft 6, S. 447-453
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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