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71 Treffer

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    Etude de la thermodiffusion binaire dans un réacteur CVD à paroi froide / Study of binary thermal diffusion in a cold wall CVD reactor
    CHEHOUANI, H ; BELGHIT, A ; et al.
    In: Entropie (Paris), Jg. 35 (1999), Heft 216, S. 14-20
    academicJournal
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    Une nouvelle technologie d'appareils de dépôt chimique en phase vapeur. Partie 2 : Modélisation du dépôt de silicium pur à partir de silane et de silicium dopé in situ au phosphore / A new technology for CVD reactors. Part 2 : Modeling of polycristalline silicon deposition from silane and in situ phosphorus doped polysilicon deposition
    VERGNES, Huges ; DUVERNEUIL, Patrick ; et al.
    In: Canadian journal of chemical engineering, Jg. 78 (2000), Heft 4, S. 803-814
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Dépôt chimique CVD de silicium dopé in situ au phosphore. Partie 2 : Analyse théorique et modélisation / CVD of in situ phosphorus doped silicon. Part 2: theoretical analysis and modeling
    TOUNSI, A ; SCHEID, E ; et al.
    In: Canadian journal of chemical engineering, Jg. 74 (1996), Heft 6, S. 950-959
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Dépôt chimique CVD de silicium dopé in situ au phosphore. Partie 1 : Etude expérimentale / CVD of in situ phosphorus doped silicon. Part 1: experimental study
    TOUNSI, A ; SCHEID, E ; et al.
    In: Canadian journal of chemical engineering, Jg. 74 (1996), Heft 6, S. 941-949
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Une nouvelle technologie d'appareils de dépôt chimique en phase vapeur. Partie 1 : Présentation et analyse des résultats expérimentaux / A new technology for CVD reactors. Part 1 : Presentation and analysis of experimental results
    VERGNES, Hugues ; DUVERNEUIL, Patrick ; et al.
    In: Canadian journal of chemical engineering, Jg. 78 (2000), Heft 4, S. 793-802
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
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  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Corrélations entre conditions d'élaboration et microstructure de dépôts CVD. Partie 1 : Position du problème et bilan des connaissances cinétiques / Correlations between operating conditions and microstructure of LPCVD films. Part 1 : Position of the problem and review of kinetic knowledge
    CAUSSAT, B ; DOLLET, A ; et al.
    In: Entropie (Paris), Jg. 35 (1999), Heft 216, S. 4-13
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Caractérisation de dépôts CVD de diamant par analyse d'images / Image analysis to characterize CVD diamond deposits
    BARRAT, S ; HAZOTTE, A ; et al.
    In: Analyse d'images et reconnaissance de formes en matériaux, Jg. 97 (2000), Heft 2
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Elaboration d'une double couche B4C-SiC sur substrats de graphite par CVD réactive : prévisions thermodynamiques et résultats expérimentaux
    Elaboration of a B4C-SiC double layer on graphite substrates by reactive CVD: thermodynamical previsions and experimental results
    In: Journal of alloys and compounds, Jg. 185 (1992), Heft 1, S. 121-144
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Elaboration de films de diamant texturés par C.V.D. assistée par plasma Micro-onde : La maîtrise des conditions de dépôt permettant le contrôle de la qualité des films : Applications industrielles du chauffage par micro-ondes / Textured diamond films using microwave plasma-enhanced CVD
    SILVA, F ; CHIRON, A ; et al.
    In: REE. Revue de l'électricité et de l'électronique, 1996, Heft 6, S. 35-39
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Le diamant CVD pour les dispositifs à ondes acoustiques de surface (SAW) / CVD diamond for surface acoustic wave devices (SAW)
    ELMAZRIA, O ; ASSOUAR, M. B
    In: Le Vide (1995), Jg. 56 (2001), Heft 300
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Approche thermodynamique de la germination et de la morphologie cristalline. Effet de texture lors de la formation d'un film mince. Application au dépôt de diamant CVD / Thermodynamic analysis of cristal nucleation and morphology. Texture effect during thin films growth. CVD diamond
    BARRAT, S
    In: Le Vide (1995), Jg. 56 (2001), Heft 300
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Mise au point d'un système d'analyse in situ par spectrométrie de masse de la phase gazeuse pour le dépôt chimique en phase vapeur / On site gas mass spectrometer set-up for CVD reactor
    THOMAS, N ; BLANQUET, E
    In: Perméabilité - Etanchéité, Jg. 51 (1995), Heft 278
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Optimisation de la fabrication de films et de membranes en diamant par méthode CVD assistée par plasma micro-onde
    Optimization of diamond film and membrane manufacturing by microwave plasma assisted CVD method
    In: Le Vide (1995), Jg. 51 (1995), Heft 276
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Techniques CVD et diffusion métallique / CVD methods and metallic diffusion
    PEYRE, J. P ; TOURNIER, C
    In: CETIM informations, Jg. 114 (1990), S. 26-34
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Croissance sélective du carbure de bore B4C par CVD réactive. Etude du système BCl3-H2-C(graphite)
    Selective growth of boron carbides B4C by reactive CVD. Study of BCl3H2-C (graphite) system
    In: Thermochimica acta, Jg. 182 (1991), Heft 2, S. 253-272
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Croissance épitaxique de GaAs1-xPx (0<x<0.6) par OM-CVD à partir du complexe ClEt2Ga•AsEt3 et de la diéthyl phosphine: une source de phosphore originale HPEt2
    Epitaxial growth of GaAs1-xPx (0<x<0.6) by OM-CVD from ClEt2Ga•AsEt3 complex and diethyl phosphine: an original phosphorus source HPEt2
    In: Journal of crystal growth, Jg. 62 (1983), Heft 3, S. 568-576
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Dépôt de TiC sur fibres de carbone par CVD réactive: influence des conditions expérimentales sur les caractéristiques des fibres obtenues
    TiC deposition on carbon fibers by reactive CVD: effect of experimental conditions on the characteristics of obtained fibers
    In: Journal of the less-common metals, Jg. 146 (1989), S. 1-15
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    CVD: des revêtements submicroniques à l'obtention de pièces massives / CVD: from submicronic coatings to massive pieces
    GAILLARD, D
    In: Matériaux et techniques, Jg. 77 (1989), Heft 3, S. 41-46
    academicJournal
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    CVD réactive de SiC graphite; comparaison entre résultats expérimentaux et prévisions thermodynamiques / Reactive CVD of SiC on graphite: comparison between experimental results and thermodynamic prevision
    VINCENT, H ; PONTHENIER, J.-L ; et al.
    In: Journal of crystal growth, Jg. 92 (1988), Heft 3-4, S. 553-570
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Applications P.V.D. et C.V.D. sur les outillages de travail à froid / PVD and CVD coatings on cold working tools
    BELLI, L ; FRAINAIS, M
    In: Traitement thermique (Paris), 1988, Heft 217, S. 41-48
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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