Zum Hauptinhalt springen
UB Hagen

Suchergebnisse

UB Katalog

Artikel & mehr
23 Treffer

Suchmaske

Suchtipp für den Bereich Artikel & mehr: Wörter werden automatisch mit UND verknüpft. Eine ODER-Verknüpfung erreicht man mit dem Zeichen "|", eine NICHT-Verknüpfung mit einem "-" (Minus) vor einem Wort. Anführungszeichen ermöglichen eine Phrasensuche.
Beispiele: (burg | schloss) -mittelalter, "berufliche bildung"

Das folgende Suchfeld wird hier nicht unterstützt: "Signatur / Strichcode".

Suchergebnisse einschränken oder erweitern

Aktive Suchfilter

Erscheinungszeitraum

Mehr Treffer

Weniger Treffer

Gefunden in

Schlagwort

23 Treffer

Sortierung: 
  1. Detailansicht für Treffer 1 öffnen
    Copper Barrier Properties of Low Dielectric Constant SiOCNH Film Deposited by Plasma-Enhanced CVD
    Ishimaru, Tomomi ; Ohdaira, Toshiyuki ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 151 (2003-12-09), S. C56- (6S.)
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    Energy Considerations in the Deposition of High‐Quality Plasma‐Enhanced CVD Silicon Dioxide
    Batey, J. ; Tierney, E. ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 138 (1991-12-01), S. 3723-3726
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    The Effects of Dilution Gas and Pressure on the Properties of PE-CVD Low-k Film
    Ikakura, Hiroshi ; Shioya, Yoshimi ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 150 (2003), S. F1
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Type of Plasmas and Microstructures of TiO[sub 2] Thin Films Prepared by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
    Cotrino, José ; Borras, Ana ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 154 (2007), S. P152
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Evaluation of an Empirical Model to Estimate and Optimize Mechanical Properties of PECVD SiC Films
    Visser, Cassan C. C. ; Pham, Hoa T. M. ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 152 (2005), S. G889
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    The Processing Windows for Selective Copper Chemical Vapor Deposition from Cu(hexafluoroacetylacetonate)trimethylvinylsilane
    Juang, Kuen‐Chi ; Chen, Mao-Chieh ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 142 (1995), S. 177-182
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Chemical Vapor Deposition of ( Ba , Sr ) TiO3
    Sakuma, Toshiyuki ; Yamaguchi, Hiromu ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 142 (1995), S. 244-248
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    The Effective Dielectric Constant of Silicon Dioxides Deposited in the Spaces Between Adjacent Conductors
    Huang, Yi‐Shiou ; Geraldine Cogin Schwartz ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 139 (1992-12-01), S. L118- (5S.)
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    High Selectivity Patterned Substrate Epitaxy of In x Ga1 − x As
    GaAs ( 0 ≤ x ≤ 1 ) by Conventional LPOMVPE
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 139 (1992-09-01), S. L84- (3S.)
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Influence of RF Bias on Hydrogenated Amorphous Silicon by High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition
    Liu, Chuan-Pu ; Wen Chu Hsiao ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 154 (2007), S. G122
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Analysis of Pore and Pore-Related Properties in Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Low Dielectric Constant Films
    Ohdaira, Toshiyuki ; Maeda, Kazuo ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 149 (2002), S. F103
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Physical and Electrical Characteristics of Methylsilane- and Trimethylsilane-Doped Low Dielectric Constant Chemical Vapor Deposited Oxides
    Chen, Mao-Chieh ; Chou, Pei-Fen ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 148 (2001), S. F127
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Analysis of the Chemical Vapor Deposition of Titanium Diboride: II . Modeling the Kinetics of Deposition
    Spear, Karl E. ; Besmann, Theodore M.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 124 (1977-05-01), S. 790-797
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Optimization of Multilayer Thin Film Passivation Processes for Improving Cache Memory Device Performance
    Feng, M. S. ; Lin, C. F. ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 146 (1999-04-01), S. 1510-1516
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Microstructure and Field Emission of Nanocrystalline Diamond Prepared from C 60 Precursors
    Gruen, Dieter M. ; McCauley, T. G. ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 144 (1997-08-01), S. L224- (5S.)
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Simulation of Rarefied Gas Transport and Profile Evolution in Nonplanar Substrate Chemical Vapor Deposition
    Coronell, Daniel G. ; Jensen, Klavs F.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 141 (1994-09-01), S. 2545-2551
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Surface Related Phenomena in Integrated PECVD/Ozone‐TEOS SACVD Processes for Sub‐Half Micron Gap Fill: Electrostatic Effects
    Nguyen, Bang C. ; Yieh, Ellie ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 141 (1994-08-01), S. 2172-2177
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Chemical Vapor Deposition of Copper from Hexafluoroacetylacetonato Copper(I) Vinyltrimethylsilane: Deposition Rates, Mechanism, Selectivity, Morphology, and Resistivity as a Function of Temperature and Pressure
    Chi, K. M. ; Hampden-Smith, Mark J. ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 140 (1993-05-01), S. 1434-1439
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    A Model of Silicon Carbide Chemical Vapor Deposition
    Allendorf, Mark D. ; Kee, Robert J.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 138 (1991-03-01), S. 841-852
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Chemical Vapor Deposition of Thin-Film Platinum
    Rand, Myron J.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 120 (1973), S. 686-686
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -