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    Fabrication and Sensing Properties of a Micro-Humidity Sensor System Using CMOS Technology
    Sung Pil Lee
    In: ELECTRONIC MATERIALS LETTERS, Jg. 6 (2010-03-30), Heft 1, S. 7-12
    Online academicJournal
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    차세대 CMOS dual metal gate용 Mo계열 합금 전극에 관한 연구 : Characteristics of Mo Based Alloys for Advanced Dual Metal Electrode Applications
    오태관 / Tae Kwan Oh ; 원상희 / Sang Hee Won ; et al.
    In: ELECTRONIC MATERIALS LETTERS, Jg. 1 (2005-12-30), Heft 2, S. 155-159
    academicJournal
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  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    CMOS Retrograde Well 제조시 MeV B 이온주입에 의한 Buried Layer 형성 : Formation of a Buried Layer Using MeV B Implantation in the Fabrication of CMOS Retrograde Well
    장윤택 ; 류한권
    In: 대한금속학회회보 / Bulletin of the Korean Institute of Metals and Materials, Jg. 11 (1998), Heft 5, S. 555-560
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    CMOS Retrograde Well 소자 특성 향상을 위한 MeV Carbon 이온주입에 의한 Gettering 효과 : The Effect of Gettering Using MeV Carbon Implantation for the Improvement of CMOS Retrograde Well Device Characteristics
    조남훈 ; 노재상
    In: 대한금속재료학회 학술대회 개요집, Jg. 1995 (1995), Heft 1, S. 62-62
    academicJournal
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  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Response Improvement of Integrated Humidity Sensors Using a Micropump
    Sung Pil Lee
    In: ELECTRONIC MATERIALS LETTERS, Jg. 6 (2010-12-30), Heft 4, S. 215-220
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
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  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Tetragonal-Ni1-xMxSi/Si (001) (M=Co, Pd, Pt)구조 연구: 제1원리 계산 : Structural Study of Tetragonal-Ni1-xMxSi/Si (001) (M=Co, Pd, Pt): First Principles Calculation
    김대희 / Dae Hee Kim ; 서화일 / Hwa Il Seo ; et al.
    In: 대한금속재료학회지 / Korean journal of metals and materials, Jg. 46 (2008-12-22), Heft 12, S. 830-834
    academicJournal
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  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Resistive Switching Properties of Pt/TiO2/n+-Si ReRAM for Nonvolatile Memory Application
    Sang Hee Won ; Seung Hee Go ; et al.
    In: ELECTRONIC MATERIALS LETTERS, Jg. 4 (2008-03-30), Heft 1, S. 29-33
    academicJournal
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  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Metal Gate and High-k Gate Dielectrics for sub 50 nm High Performance MOSFETs
    Park, Hokyung ; Hasan, Musarrat
    In: ELECTRONIC MATERIALS LETTERS, Jg. 3 (2007-06-30), Heft 2, S. 75-85
    academicJournal
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  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    니켈/코발트/실리콘 적층구조로부터 제조된 실리사이드 : Silicides from Ni/Co/Si Structure
    송오성 / Oh Sung Song ; 정성희 / Seong Hwee Cheong ; et al.
    In: 대한금속재료학회지 / Korean journal of metals and materials, Jg. 43 (2005-02-21), Heft 2, S. 137-141
    academicJournal
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