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    Intrinsic stress in diamond films prepared by microwave plasma CVD
    WINDISCHMANN, H ; EPPS, G. F ; et al.
    In: Journal of applied physics, Jg. 69 (1991), Heft 4, S. 2231-2237
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    Interface characterization of chemically vapor deposited diamond on titanium and Ti-6Al-4V
    PERRY, S. S ; AGER, J. W ; et al.
    In: Journal of applied physics, Jg. 74 (1993), Heft 12, S. 7542-7550
    Online academicJournal
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    Effects of plasma and/or 193 nm excimer-laser irradiation in chemical-vapor deposition of boron films from B2H6+He
    KOMATSU, S ; KASAMATSU, M ; et al.
    In: Journal of applied physics, Jg. 71 (1992), Heft 11, S. 5654-5664
    Online academicJournal
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    Low energy ion implantation and electrochemical separation of diamond films
    MARCHYWKA, M ; PEHRSSON, P. E ; et al.
    In: Applied physics letters, Jg. 63 (1993), Heft 25, S. 3521-3523
    Online academicJournal
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    Combustion chemical vapor deposition : a novel thin-film deposition technique
    HUNT, A. T ; CARTER, W. B ; et al.
    In: Applied physics letters, Jg. 63 (1993), Heft 2, S. 266-268
    Online academicJournal
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    Study of defects in silicon dioxide films on Si(100) by a variable-energy positron beam
    FUJINAMI, M ; CHILTON, N. B ; et al.
    In: Journal of applied physics, Jg. 74 (1993), Heft 9, S. 5406-5409
    Online academicJournal
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    In situ infrared reflection and transmission absorption spectroscopy study of surface reactions in selective chemical-vapor deposition of tungsten using WF6 and SiH4
    KOBAYASHI, N ; NAKAMURA, Y ; et al.
    In: Journal of applied physics, Jg. 73 (1993), Heft 9, S. 4637-4643
    Online academicJournal
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    Homoepitaxial growth of diamond thin films by electron cyclotron-resonance microwave plasma chemical-vapor-deposition apparatus with CO/H2 gaseous source
    KOMORI, M ; MAKI, T ; et al.
    In: Applied physics letters, Jg. 62 (1993), Heft 6, S. 582-584
    Online academicJournal
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    Formation of compositionally uniform tungsten silicide films using dichlorosilane in a single-wafer reactor
    TELFORD, S. G ; EIZENBERG, M ; et al.
    In: Applied physics letters, Jg. 62 (1993), Heft 15, S. 1766-1768
    Online academicJournal
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    Tungsten deposition on GaAs using WF6 and atomic hydrogen
    VAN MAAREN, A. J. P ; SINKE, W. C
    In: Journal of applied physics, Jg. 73 (1993), Heft 4, S. 1989-1992
    Online academicJournal
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    The evolution of growth stresses in chemical vapor deposited tungsten films studied by in situ wafer curvature measurements
    LEUSINK, G. J ; OOSTERLAKEN, T. G. M ; et al.
    In: Journal of applied physics, Jg. 74 (1993), Heft 6, S. 3899-3910
    Online academicJournal
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    Sequential deposition of diamond from sputtered carbon and atomic hydrogen
    OLSON, D. S ; KELLY, M. A ; et al.
    In: Journal of applied physics, Jg. 74 (1993), Heft 8, S. 5167-5171
    Online academicJournal
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    Scaling laws for diamond chemical-vapor deposition. I: Diamond surface chemistry
    GOODWIN, D. G
    In: Journal of applied physics, Jg. 74 (1993), Heft 11, S. 6888-6894
    Online academicJournal
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    Scaling laws for diamond chemical-vapor deposition. II: Atomic hydrogen transport
    GOODWIN, D. G
    In: Journal of applied physics, Jg. 74 (1993), Heft 11, S. 6895-6906
    Online academicJournal
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    Reaction mechanism of electrochemical-vapor deposition of yttria-stabilized zirconia film
    SASAKI, H ; YAKAWA, C ; et al.
    In: Journal of applied physics, Jg. 74 (1993), Heft 7, S. 4608-4613
    Online academicJournal
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    Photo-enhanced chemical vapor deposition : system design consideration
    LIAN, S ; FOWLER, B ; et al.
    In: Journal of vacuum science and technology. A. Vacuum, surfaces, Jg. 11 (1993), Heft 6, S. 2914-2923
    academicJournal
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    Pattern sensitivity of selectivity Si1-xGex chemical vapor deposition : pressure dependence
    KAMINS, T. I
    In: Journal of applied physics, Jg. 74 (1993), Heft 9, S. 5799-5802
    Online academicJournal
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    Particle contamination in low pressure organometallic chemical vapor deposition reactors : methods of particle detection and causes of particle formation using a liquid alane (AlH3) precursor
    SIMMONDS, M. G ; GLADFELTER, W. L ; et al.
    In: Journal of vacuum science and technology. A. Vacuum, surfaces, Jg. 11 (1993), Heft 6, S. 3026-3033
    academicJournal
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    Nucleation of diamond during hot filament chemical vapor deposition
    SINGH, J ; VELLAIKAL, M
    In: Journal of applied physics, Jg. 73 (1993), Heft 6, S. 2831-2834
    Online academicJournal
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    Nucleation and deposition of W on GaAs by excimer laser-assisted chemical vapor deposition
    VAN MAAREN, A. J. P ; SINKE, W. C ; et al.
    In: Journal of applied physics, Jg. 73 (1993), Heft 4, S. 1981-1988
    Online academicJournal
    Zugriff:
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