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    The effect of LaB6 cathode shape on its performance in a JBX 5DII electron beam lithography system
    Swanson, L. W. ; Tennant, D. M.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures, Jg. 7 (1989), S. 93-93
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
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    Low temperature ZEP-520A development process for enhanced critical dimension realization in reactive ion etch etched polysilicon
    Bunday, B. ; Myhajlenko, S. ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures, Jg. 25 (2007), S. 102-102
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Simple technique for measuring grating periods made using e-beam lithography
    Tennant, D. M. ; Feder, K. S.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures, Jg. 16 (1998-07-01), S. 2113-2113
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -