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    Hotspot fixing using ILT [7973-56] : Optical microlithography
    Sim, W. ; Jung, S. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERS, Jg. 7973 (2011), Heft 2, S. 7973 1L
    Konferenz
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    Enhancing fullchip ILT mask synthesis capability for IC manufacturability [7973-47] : Optical microlithography
    Cecil, T. ; Ashton, C. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERS, Jg. 7973 (2011), Heft 1, S. 7973 1C
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Affordable and process window increasing full chip ILT masks [7823-111] : Symposium on Photomask Technology
    Xiao, G. ; Irby, D. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 7823 (2010), Heft 2, S. 7823 3T
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Improving model prediction accuracy for ILT with aggressive SRAFs [7823-35] : Symposium on Photomask Technology
    Jung, S. ; Sim, W. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 7823 (2010), Heft 1, S. 7823 11
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Optimization from design rules, source and mask, to full chip with a single computational lithography framework: level-set-methods-based inverse lithography technology (ILT) [7640-23] : Optical microlithography
    Pang, L. ; Peng, D. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERS, Jg. 7640 (2010), Heft 1, S. 7640 0O
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Evaluation of lithographic benefits of using ILT techniques for 22 nm-node [7640-20] : Optical microlithography
    Zou, Y. ; Deng, Y. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERS, Jg. 7640 (2010), Heft 1, S. 7640 0L
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Source mask optimization (SMO) at full chip scale using inverse lithography technology (ILT) based on level set methods [7520-10] : Lithography Asia
    Pang, L. ; Hu, P. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 7520 (2009), S. 7520 0X
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Inverse lithography (ILT) mask manufacturability for full-chip device [7488-95] : Photomask technology
    Kim, B. G. ; Suh, S.S. ; et al.
    In: PROCEEDINGS-SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 7488 (2009), Heft 1, S. 7488 12
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Manufacturability of ILT patterns in low-NA 193nm environment [7274-141] : Optical microlithography XXII
    Lim, C. ; Temchenko, V. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERS, Jg. 7274 (2009), Heft 2, S. 7274 39
    Konferenz
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    Considering MEEF in inverse lithography technology (ILT) and source mask optimization (SMO) [7122-68] : Photomask technology
    Pang, L. ; Xiao, G. ; et al.
    In: PROCEEDINGS-SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 7122 (2008), Heft PTS 1-2, S. 7122 1W
    Konferenz
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  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Considering MEEF in inverse lithography technology (ILT) and source mask optimization (SMO) [7122-68] : Photomask technology
    Pang, L. ; Xiao, G. ; et al.
    In: PROCEEDINGS-SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 7122 (2008), Heft PTS 1-2, S. 7122 1W
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Validation of inverse lithography technology (ILT) and its adaptive SRAF at advanced technology nodes [6924-28] : Optical microlithography
    Pang, L. ; Dai, G. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 6924 (2008), Heft 1, S. 6924 0T
    Konferenz
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    Inverse lithography technology (ILT): keep the balance between SRAF and MRC at 45 and 32 nm [6730-212] : Photomask technology
    Pang, L. ; Liu, Y. ; et al.
    In: PROCEEDINGS-SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 6730 (2007), Heft 3, S. 6730 52
    Konferenz
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    Inverse lithography technology (ILT): a natural solution for model-based SRAF at 45-nm and 32-nm [6607-116] : Photomask and next-generation lithography mask technology
    Pang, L. ; Liu, Y. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 6607 (2007), Heft 2, S. 660739-660739
    Konferenz
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    ILT for double exposure lithography with conventional and novel materials [6520-100] : Optical microlithography
    Poonawala, A. ; Borodovsky, Y. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 6520 (2007), Heft 2, S. 65202Q
    Konferenz
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