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    The decananometer CMOS era - Is there CMOS after CMOS?
    Deleonibus, S. ; Caillat, C. ; et al.
    In: 29th European Solid-State Device Research Conference, Jg. 1 (1999), S. 119-126
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    NO oxides for low noise 0.18um analog CMOS
    Da Rold, M. ; Simoen, E. ; et al.
    In: 31st European Solid-State Device Research Conference, 2001, S. 111-114
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Pockets and offset spacer engineering for 100 nm CMOS
    Surdeanu, R. ; Dachs, C.J.J. ; et al.
    In: 31st European Solid-State Device Research Conference, 2001, S. 431-434
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    A Geiger Mode Avalanche Photodiode Fabricated in a Conventional CMOS Technology
    Rochas, A. ; Besse, P.A. ; et al.
    In: 31st European Solid-State Device Research Conference, 2001, S. 483-486
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Using the Self Aligned Field Implant to Design High Voltage Devices in Sub- µm CMOS Technologies
    Vermandel, M. ; Doutreloigne, J. ; et al.
    In: 30th European Solid-State Device Research Conference, 2000, S. 228-231
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Technology and System Integration of CMOS Image Sensors
    Holz, J. ; Koren, I. ; et al.
    In: 30th European Solid-State Device Research Conference, 2000, S. 92-100
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Optimisation of a TiSi2 SALICIDE Process in a 0.18 um CMOS Technology with Dual Selective Etch Process TISE2
    Pares, G. ; Basso, M. T. ; et al.
    In: 30th European Solid-State Device Research Conference, 2000, S. 256-259
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Oxide Thickness Scaling Limit for Optimum CMOS Logic Circuit Performance
    Bowman, K.A. ; Wang, Lihui ; et al.
    In: 30th European Solid-State Device Research Conference, 2000, S. 300-303
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    2D dopant profiling of advanced CMOS technologies by preferential etching, comparison with 2D process simulations
    Dachs, C.J.J. ; Verheijen, M.A. ; et al.
    In: 30th European Solid-State Device Research Conference, 2000, S. 360-363
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Investigation of the suitability of spike anneal for advanced CMOS technology
    Lenoble, D. ; Josse, E. ; et al.
    In: 30th European Solid-State Device Research Conference, 2000, S. 392-395
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    High-Voltage Drain Extended MOS Transistors for 0.18 um Logic CMOS Process
    Mitros, J. ; Tsai, C.Y. ; et al.
    In: 30th European Solid-State Device Research Conference, 2000, S. 376-379
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Area-Efficient ESD Protection Design without Additional Process Cost in 0.18 um Salicided CMOS Technology
    Kawazoe, H. ; Aoki, E. ; et al.
    In: 30th European Solid-State Device Research Conference, 2000, S. 516-519
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    A 0.13um CMOS Technology for Low-Voltage Analogue Applications
    Ponomarev, Y.V. ; Stolk, P.A. ; et al.
    In: 29th European Solid-State Device Research Conference, Jg. 1 (1999), S. 180-183
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Challenges in Compact Modelling of Future RF CMOS
    Klaassen, D.B.M. ; van Langevelde, R. ; et al.
    In: 29th European Solid-State Device Research Conference, Jg. 1 (1999), S. 95-102
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Impact of Plasma Density and Pattern Aspect Ratio on Plasma Damage in deep submicron CMOS technologies
    Creusen, M. ; Van den bosch, G. ; et al.
    In: 29th European Solid-State Device Research Conference, Jg. 1 (1999), S. 164-167
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Implications of pocket optimisation on analog performance in deep sub-micron CMOS
    Roes, R.F.M. ; van Brandenburg, A.C.M.C. ; et al.
    In: 29th European Solid-State Device Research Conference, Jg. 1 (1999), S. 176-179
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Advanced Nitrogen Preimplant Gate Oxide Technique for Suppression of RNWE and RSCE for 0.18 um CMOS Technology
    Huang, S. F. ; Puchner, H. ; et al.
    In: 29th European Solid-State Device Research Conference, Jg. 1 (1999), S. 200-203
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Analysis of Process Influence on HSQ Dielectric and Impact on CMOS Circuit Performance
    Lair, C. ; Froment, B. ; et al.
    In: 29th European Solid-State Device Research Conference, Jg. 1 (1999), S. 264-267
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Integrated High-speed, High-responsivity Photodiodes in CMOS and BiCMOS Technology
    Zimmermann, H. ; Kieschnick, K. ; et al.
    In: 29th European Solid-State Device Research Conference, Jg. 1 (1999), S. 332-335
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Investigation of the Threshold Voltage Difference between Partially-Depleted SOI and bulk CMOS transistors
    van Meer, H. ; Lyu, J. H. ; et al.
    In: 29th European Solid-State Device Research Conference, Jg. 1 (1999), S. 372-375
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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