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    Interlayer mediated epitaxy of cobalt silicide on silicon (100) from low temperature chemical vapor deposition of cobalt formation mechanisms and associated properties
    LONDERGAN, Ana R ; NUESCA, Guillermo ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 148 (2001), Heft 1, S. C21- (7S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Properties of copper films prepared by chemical vapor deposition for advanced metallization of microelectronic devices
    KRÖGER, R ; EIZENBERG, M ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 146 (1999), Heft 9, S. 3248-3254
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    MOCVD of PZT thin films with different precursor solutions for testing mass-production compatibility
    JEONG, Seehwa ; SHI-ZHAO, Jin ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 150 (2003), Heft 10, S. C678- (10S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Study of the thermal properties of Pr(III) precursors and their implementation in the MOCVD growth of praseodymium oxide films
    LO NIGRO, Raffaella ; TORO, Roberta G ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 151 (2004), Heft 9, S. F206- (8S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Atomic layer deposition of strontium tantalate thin films from bimetallic precursors and water
    VEHKAMÄKI, Marko ; RITALA, Mikko ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 151 (2004), Heft 4, S. F69- (4S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Precursors for deposition of strontium bismuth tantalate films by direct liquid injection-metallorganic chemical vapor deposition
    KANG, Sang-Woo ; YANG, Kee-Jeong ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 149 (2002), Heft 1, S. C44- (6S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Microstructure of copper films deposited on TiN substrate by metallorganic chemical vapor deposition
    KANG, Sang-Woo ; YUN, Ju-Young ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 149 (2002), Heft 1, S. C33- (4S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Direct liquid injection metallorganic chemical vapor deposition of ZrO2 thin films using Zr(dmae)4 as a novel precursor
    JEONG SEOK, NA ; KIM, Dae-Hwan ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 149 (2002), Heft 1, S. C23- (5S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Vertical distribution of lattice strain in polycrystalline silicon films grown on silicon dioxide
    TANIKAWA, Akio
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 148 (2001), Heft 8, S. G406- (5S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Mechanistic study and characterization of 3C-SiC(100) grown on Si(100)
    KWANG CHUL, KIM ; CHAN IL, PARK ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 148 (2001), Heft 5, S. C383- (7S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Influence of deposition temperature on the microstructure of Pb-Ti-Nb-O thin films by metallorganic chemical vapor deposition
    LIU, Xue-Dong ; FUNAKUBO, Hiroshi ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 148 (2001), Heft 3, S. C227- (4S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Fabrication of LaAlO3/Pt(100)/Hastelloy C276 and CeO2(100)/Pt(100)/Hastelloy C276 multilayers by metallorganic chemical vapor deposition
    LO NIGRO, Raffaella ; MALANDRINO, Graziella ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 148 (2001), Heft 8, S. F159- (5S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Effect of carrier gas on chemical vapor deposition of copper with (hexafluoroacetylacetonate)Cu(1)(3,3-dimethyl-1-butene)
    CHOI, Kyeong-Keun ; RHEE, Shi-Woo
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 148 (2001), Heft 7, S. C473- (6S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Structural properties of SnxSy thin films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition
    SANCHEZ-JUAREZ, A ; ORTIZ, A
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 147 (2000), Heft 10, S. 3708-3717
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Thermodynamic calculations and metallorganic chemical vapor deposition of ruthenium thin films using bis(ethyl-π-cyclopentadienyl)ru for memory applications
    SANG YEOL, KANG ; KOOK HYUN, CHOI ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 147 (2000), Heft 3, S. 1161-1167
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Preparation of TiN microcoils and microtubes by titanizing/nitriding of carbon and TiC microcoils
    MOTOJIMA, S ; HWANG, W.-I ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 147 (2000), Heft 3, S. 1228-1234
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Metallorganic chemical vapor deposition of SrS:Ce for thin film electroluminescent device applications
    BARTH, K. W ; LAU, J. E ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 147 (2000), Heft 6, S. 2174-2180
    academicJournal
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Low temperature chemical vapor deposition of ZrO2 on Si(100) using anhydrous zirconium(V) nitrate
    SMITH, Ryan C ; HOILIEN, Noel ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 147 (2000), Heft 9, S. 3472-3476
    academicJournal
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Formation of CoSi2 on various polycrystalline silicon structures and its effects on thermal stability
    BAE, J.-U ; DONG KYUN, SOHN ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 147 (2000), Heft 4, S. 1551-1554
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Diffusion barrier properties of sputtered TiB2 between Cu and Si
    CHEN, J. S ; WANG, J. L
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 147 (2000), Heft 5, S. 1940-1944
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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