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    Expanding thermal plasma CVD : experimental studies of the plasma-surface interaction
    Sanden, van de, M.C.M. ; Creatore, M. ; et al.
    In: EUROCVD-15 : Fifteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition; proceedings of the international symposium; [held from 5th to 9th September 2005 in Bochum, Germany], 2005, S. 36-48
    Online Konferenz
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Modelling of low-pressure CVD processes
    Brekel, van den, C.H.J. ; Kuiper, A.E.T. ; et al.
    In: Proceedings of the Eighth International Conference on Chemical Vapor Deposition, 1981, Gouvieux, France, 1981, S. 131-141
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    MOCVD of zirconium oxide from the zirconium guanidinate complex |ZrCp′{2-(iPrN)2CNMe2}2Cl]
    Blackman, C.S. ; Carmalt, C.J. ; et al.
    In: 17th International Chemical Vapor Deposition Symposium (CVD-XVII) as part of the 216th Meeting of the Electrochemical Society 4 -9 October 2009, Vienna, 2009, S. 561-565
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    A new concept for spatially divided deep reactive ion etching with ALD based passivation
    Roozeboom, F. ; Kniknie, B.J. ; et al.
    In: Processing Materials of 3D Interconnects, Damascene and Electronics Packaging 4 (PRiME 2012), October 7, 2013, S. 73-82
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Low-pressure chemical vapor deposition as a tool for deposition of thin film battery materials
    Oudenhoven, J.F.M. ; Dongen, van, T. ; et al.
    In: 17th International Chemical Vapor Deposition Symposium (CVD-XVII) as part of the 216th Meeting of the Electrochemical Society 4 -9 October 2009, Vienna, 2009, S. 653-658
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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sm 576 - 768
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