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    Pattern etching of CVD Si3N4/SiO2 composites in HF/glycerol mixtures.
    Deckert, C. A.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 127 (1980-11-02), S. 2433-2438
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Boron diffffusion into Si from CVD-BN covered with Si3N4 and application to master slice p-MOS IC.
    Shohno, K.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 127 (1980-07-01), S. 1546-1550
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Etching of CVD Si3N4 in acidic fluoride media.
    Deckert, C. A.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 125 (1978-02-01), S. 320-323
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Chemically bound hydrogen in CVD Si3N4.
    Stein, H. J. ; Wegener, H. A. R.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 124 (1977-06-01), S. 908-912
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Nature of CVD Si-rich SiO2 and Si3N4 films.
    Irene, E. A.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 127 (1980-11-02), S. 2518-2520
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Correlation Between Composition and Stress for High Density Plasma CVD Silicon Nitride Films.
    Sah, R. E. ; Baumann, H. ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 157 (2010-02-01), Heft 2, S. G33- (6S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Oxidation studies of crystalline CVD silicon nitride.
    Du, Honghua ; Tressler, Richard E. ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 136 (1989-05-01), S. 1527-1536
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Thermally stimulated current properties of alkaline ions in CVD Si3N4.
    Balland, B. ; Lemiti, M. ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 137 (1990-09-01), S. 2845-2849
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Hard and High-Temperature-Resistant Silicon Carbonitride Coatings Based on N-Silyl-Substituted Cyclodisilazane Rings.
    Wrobel, A. M. ; Blaszczyk-Lezak, I. ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 155 (2008-04-01), Heft 4, S. K66- (11S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    The oxidation of chemically vapor deposited silicon nitride and silicon nitride coated graphite.
    Fergus, Jeffrey W. ; Worrell, Wayne L.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 142 (1995), S. 183-185
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Growth and characterization of SiC/SiNx/Si structures.
    Nahm, Kee Suk ; Kim, Kwang Chul ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 148 (2001-03-01), Heft 3, S. G132- (5S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Preparation of a-SiNx thin film with low hydrogen content by inductively coupled plasma enhanced chemical vapor deposition.
    Han, Sang-Soo ; Jun, Byung-Hyuk ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 145 (1998-02-01), S. 652-658
    academicJournal
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    Water-resistant coating on low temperature amorphous silicon nitride films by a thin layer of amorphous silicon hydrogen alloy.
    Liao, Wen-Shiang ; Lee, Si-Chen
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 144 (1997-04-01), S. 1477-1481
    academicJournal
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    Characterization of GaAs(110) nitrided by an electron-cyclotron resonance plasma source using N2.
    Landheer, D. ; Rajesh, K. ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 147 (2000-02-01), Heft 2, S. 731-735
    academicJournal
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    Integration of Carbon Nanotube Interconnects for Full Compatibility with Semiconductor Technologies.
    Lee, Sunwoo ; Lim, Jae-Sung ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 158 (2011-11-01), Heft 11, S. K193- (4S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Analysis of Chemical and Mechanical Factors in CMP Processes for Improving Material Removal Rate.
    Tamai, Kazusei ; Morinaga, Hitoshi ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 158 (2011-03-01), Heft 3, S. H333- (5S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Platinum Nanoparticles Grown by Atomic Layer Deposition for Charge Storage Memory Applications.
    Novak, Steven ; Lee, Bongmook ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 157 (2010-06-01), Heft 6, S. H589- (4S.)
    academicJournal
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    Transparent Barrier Coatings on High Temperature Resisting Polymer Substrates for Flexible Electronic Applications.
    Wuu, Dong-Sing ; Chen, Tsai-Ning ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 157 (2010-02-01), Heft 2, S. C47- (5S.)
    academicJournal
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Interlevel Dielectric Processes Using PECVD Silicon Nitride, Polyimide, and Polybenzoxazole for GaAs HBT Technology.
    Yota, Jiro
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 156 (2009-11-01), Heft 11, S. G173- (7S.)
    academicJournal
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    New Characterization Methodology of Borderless Silicon Nitride Charge Kinetics Using C-V Hysteresis Loops.
    Beylier, G. ; Bruyère, S. ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 155 (2008-05-01), Heft 5, S. H273- (7S.)
    academicJournal
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