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    Strained-Si/SiGe/Ge-On-Insulator CMOS Device Technologies : Semiconductors and integrated circuits technology
    Takagi, S.
    In: PROCEEDINGS OF THE SYMPOSIUM ON SEMICONDUCTORS AND INTEGRATED CIRCUITS TECHNOLOGY, 2005, Heft 69, S. 75-78
    Konferenz
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    A Comprehensive Study of Ni Fully-silicided (Ni-FUSI) Metal Gates for High-performance CMOS Devices : Semiconductors and integrated circuits technology
    Hosaka, K. ; Kurahashi, T. ; et al.
    In: PROCEEDINGS OF THE SYMPOSIUM ON SEMICONDUCTORS AND INTEGRATED CIRCUITS TECHNOLOGY, 2005, Heft 69, S. 63-66
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Chemical Dry Cleaning Technology for Reliable 65nm CMOS Contact to NiSix : Semiconductors and integrated circuits technology
    Honda, M. ; Tsutsumi, K. ; et al.
    In: PROCEEDINGS OF THE SYMPOSIUM ON SEMICONDUCTORS AND INTEGRATED CIRCUITS TECHNOLOGY, Jg. 68 (2005), S. 25-28
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    SOI-CMOS Device Technology for High Speed and Low Power Consumption LSI : Semiconductors and integrated circuits technology
    Ipposhi, T. ; Maegawa, S. ; et al.
    In: PROCEEDINGS OF THE SYMPOSIUM ON SEMICONDUCTORS AND INTEGRATED CIRCUITS TECHNOLOGY, Jg. 68 (2005), S. 7-10
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    A Novel Strain Enhanced CMOS Architecture Using Selectively Deposited High Tensile And High Compressive Silicon Nitride Films : Semiconductors and integrated circuits technology
    Pidin, S. ; Ogura, Y. ; et al.
    In: PROCEEDINGS OF THE SYMPOSIUM ON SEMICONDUCTORS AND INTEGRATED CIRCUITS TECHNOLOGY, Jg. 68 (2005), S. 19-22
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Sub-10-nm Planar-Bulk-CMOS Device Properties : Semiconductors and integrated circuits technology
    Wakabayashi, H. ; Ezaki, T. ; et al.
    In: PROCEEDINGS OF THE SYMPOSIUM ON SEMICONDUCTORS AND INTEGRATED CIRCUITS TECHNOLOGY, Jg. 68 (2005), S. 15-18
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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