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    Additive 3D photonic integration that is CMOS compatible.
    Grabulosa, A ; Moughames, J ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 34 (2023-05-24), Heft 32
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    A CMOS compatible thermoelectric device made of crystalline silicon membranes with nanopores.
    Bah, TM ; Didenko, S ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 33 (2022-09-26), Heft 50
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    A CMOS-compatible morphotropic phase boundary.
    Kashir, A ; Hwang, H
    In: Nanotechnology, Jg. 32 (2021-08-13), Heft 44
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Wafer-scale fabrication of isolated luminescent silicon quantum dots using standard CMOS technology.
    Jingjian, Z ; Pevere, F ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 31 (2020-12-11), Heft 50, S. 505204
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Conductive filament evolution dynamics revealed by cryogenic (1.5 K) multilevel switching of CMOS-compatible Al <subscript>2</subscript> O <subscript>3</subscript> /TiO <subscript>2</subscript> resistive memories.
    Beilliard, Y ; Paquette, F ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 31 (2020-10-30), Heft 44, S. 445205
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Erratum: Conductive filament evolution dynamics revealed by cryogenic (1.5 K) multilevel switching of CMOS-compatible Al <subscript>2</subscript> O <subscript>3</subscript> /TiO <subscript>2</subscript> resistive memories (2020 Nanotechnology 31 445205).
    Beilliard, Y ; Paquette, F ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 31 (2020-09-24), Heft 49
    unknown
    Wie komme ich dran?
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    CMOS-compatible Si metasurface at visible wavelengths prepared by low-temperature green laser annealing.
    Lee, JY ; Kim, Y ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 30 (2019-01-25), Heft 4, S. 045301
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    CMOS platform for atomic-scale device fabrication.
    Škereň, T ; Pascher, N ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 29 (2018-10-26), Heft 43, S. 435302
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    The effect of the bottom electrode on ferroelectric tunnel junctions based on CMOS-compatible HfO <subscript>2</subscript> .
    Goh, Y ; Jeon, S
    In: Nanotechnology, Jg. 29 (2018-08-17), Heft 33, S. 335201
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Arrays of suspended silicon nanowires defined by ion beam implantation: mechanical coupling and combination with CMOS technology.
    Llobet, J ; Rius, G ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 29 (2018-04-02), Heft 15, S. 155303
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    AC signal characterization for optimization of a CMOS single-electron pump.
    Murray, R ; Perron, JK ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 29 (2018-02-09), Heft 6, S. 065202
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    High aspect ratio sharp nanotip for nanocantilever integration at CMOS compatible temperature.
    Wang, P ; Michael, A ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 28 (2017-08-11), Heft 32, S. 32LT01
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Titanium dioxide nanowire sensor array integration on CMOS platform using deterministic assembly.
    Gall, OZ ; Zhong, X ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 28 (2017-06-30), Heft 26, S. 265501
    academicJournal
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    A reliable and controllable graphene doping method compatible with current CMOS technology and the demonstration of its device applications.
    Kim, S ; Shin, S ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 28 (2017-04-28), Heft 17, S. 175710
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    A CMOS-compatible electronic synapse device based on Cu/SiO2/W programmable metallization cells.
    Chen, W ; Fang, R ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 27 (2016-06-24), Heft 25, S. 255202
    academicJournal
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Mask-less deposition of Au-SnO2 nanocomposites on CMOS MEMS platform for ethanol detection.
    Santra, S ; Sinha, AK ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 27 (2016-03-29), Heft 12, S. 125502
    academicJournal
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    A straightforward and CMOS-compatible nanofabrication technique of periodic SiO2 nanohole arrays.
    Meng, L ; He, X ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 26 (2015-10-16), Heft 41, S. 415303
    academicJournal
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    VHF NEMS-CMOS piezoresistive resonators for advanced sensing applications.
    Arcamone, J ; Dupré, C ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 25 (2014-10-31), Heft 43, S. 435501
    academicJournal
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    3D integration of planar crossbar memristive devices with CMOS substrate.
    Lin, P ; Pi, S ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 25 (2014-10-10), Heft 40, S. 405202
    academicJournal
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Encapsulate-and-peel: fabricating carbon nanotube CMOS integrated circuits in a flexible ultra-thin plastic film.
    Gao, P ; Zhang, Q
    In: Nanotechnology, Jg. 25 (2014-02-14), Heft 6, S. 065301
    academicJournal
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