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    Comparison of Thermal and Plasma-Enhanced ALD/CVD of Vanadium Pentoxide.
    Musschoot, J. ; Deduytsche, D. ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 156 (2009-07-01), Heft 7, S. P122- (5S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Comparative Study of Cu-CVD Seed Layer Deposition on Ru and Ta Underlayers.
    Kim, Hoon ; Shimogaki, Yukihiro
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 154 (2007), Heft 1, S. G13- (5S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Correlation Between Composition and Stress for High Density Plasma CVD Silicon Nitride Films.
    Sah, R. E. ; Baumann, H. ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 157 (2010-02-01), Heft 2, S. G33- (6S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Hard and High-Temperature-Resistant Silicon Carbonitride Coatings Based on N-Silyl-Substituted Cyclodisilazane Rings.
    Wrobel, A. M. ; Biaszczyk-Lezak, I. ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 155 (2008-04-01), Heft 4, S. K66- (11S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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