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    NMOS contact engineering for CMOS scaling
    Rao, K.V. ; Ni, Chi-Nung ; et al.
    In: 2015 15th International Workshop on Junction Technology (IWJT), 2015-06-01, S. 44-49
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Schottky barrier height modulation at NiGe/Ge interface by phosphorous ion implantation and its application to Ge-based CMOS devices
    Hosoi, Takuji ; Oka, Hiroshi ; et al.
    In: 2015 15th International Workshop on Junction Technology (IWJT), 2015-06-01, S. 69-70
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Recent progress of junction technology for germanium CMOS
    Nishimura, Tomonori ; Lee, Choong Hyun ; et al.
    In: 2015 15th International Workshop on Junction Technology (IWJT), 2015-06-01, S. 65-68
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Impact of microwave annealing on advanced junction technology
    Yamaguchi, Tadashi
    In: 2015 15th International Workshop on Junction Technology (IWJT), 2015-06-01, S. 77-80
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Formation of Ge pn-junction diode by phosphorus doping with liquid immersion laser irradiation
    Takahashi, Kouta ; Kurosawa, Masashi ; et al.
    In: 2015 15th International Workshop on Junction Technology (IWJT), 2015-06-01, S. 8-10
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    “Future of integrated devices”
    Iwai, Hiroshi
    In: 2015 15th International Workshop on Junction Technology (IWJT), 2015-06-01, S. 43-43
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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sm 576 - 768
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