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    First demonstration of 3D SRAM through 3D monolithic integration of InGaAs n-FinFETs on FDSOI Si CMOS with inter-layer contacts
    Deshpande, V. ; Hahn, H. ; et al.
    In: 2017 Symposium on VLSI Technology, 2017-06-01, S. 2
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    A digitally controlled fully integrated voltage regulator with 3D-TSV based on-die solenoid inductor with backside planar magnetic core in 14nm tri-gate CMOS
    Krishnamurthy, Harish K. ; Weng, Sheldon ; et al.
    In: 2017 Symposium on VLSI Technology, 2017-06-01, S. 2
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Statistical characterization of radiation-induced pulse waveforms and flip-flop soft errors in 14nm tri-gate CMOS using a back-sampling chain (BSC) technique
    Kumar, Saurabh ; Cho, Minki ; et al.
    In: 2017 Symposium on VLSI Technology, 2017-06-01, S. 2
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Fmax/Vmin and noise margin impacts of aging on domino read, static write, and retention of 8T 1R1W SRAM arrays in 22nm high-k/metal-gate tri-gate CMOS
    Kulkami, Jaydeep P. ; Tokunaga, Carlos ; et al.
    In: 2017 Symposium on VLSI Technology, 2017-06-01, S. 2
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    CMOS-embedded STT-MRAM arrays in 2x nm nodes for GP-MCU applications
    Shum, D. ; Houssameddine, D. ; et al.
    In: 2017 Symposium on VLSI Technology, 2017-06-01, S. 2
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Highly-selective superconformai CVD Ti silicide process enabling area-enhanced contacts for next-generation CMOS architectures
    Breil, N. ; Carr, A. ; et al.
    In: 2017 Symposium on VLSI Technology, 2017-06-01, S. 2
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Impact of strain on access resistance in planar and nanowire CMOS devices
    Berthelon, R. ; Andneu, F. ; et al.
    In: 2017 Symposium on VLSI Technology, 2017-06-01, S. 2
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    First demonstration of flash RRAM on pure CMOS logic 14nm FinFET platform featuring excellent immunity to sneak-path and MLC capability
    Hsieh, E. R. ; Kuo, Y. C. ; et al.
    In: 2017 Symposium on VLSI Technology, 2017-06-01, S. 2
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    An all pixel PDAF CMOS image sensor with 0.64μmx1.28μm photodiode separated by self-aligned in-pixel deep trench isolation for high AF performance
    Choi, Sungsoo ; Lee, Kyungho ; et al.
    In: 2017 Symposium on VLSI Technology, 2017-06-01, S. 2
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    A low-power Cu atom switch programmable logic fabricated in a 40nm-node CMOS technology
    Bai, X. ; Sakamoto, T. ; et al.
    In: 2017 Symposium on VLSI Technology, 2017-06-01, S. 2
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    14nm FinFET technology for analog and RF applications
    Singh, J. ; Bousquet, A. ; et al.
    In: 2017 Symposium on VLSI Technology, 2017-06-01, S. 2
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    An adaptive clocking control circuit with 7.5% frequency gain for SPARC processors
    Hashimoto, Tetsutaro ; Kawabe, Yukihito ; et al.
    In: 2017 Symposium on VLSI Technology, 2017-06-01, S. 2
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    A shutter-less micro-bolometer thermal imaging system using multiple digital correlated double sampling for mobile applications
    Park, Seunghyun ; Cho, Tei ; et al.
    In: 2017 Symposium on VLSI Technology, 2017-06-01, S. 2
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    A 462GOPs/J RRAM-based nonvolatile intelligent processor for energy harvesting IoE system featuring nonvolatile logics and processing-in-memory
    Su, Fang ; Chen, Wei-Hao ; et al.
    In: 2017 Symposium on VLSI Technology, 2017-06-01, S. 2
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Ultra-low power probabilistic IMT neurons for stochastic sampling machines
    Jerry, M. ; Parihar, A. ; et al.
    In: 2017 Symposium on VLSI Technology, 2017-06-01, S. 2
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    A fully-integrated method for RTN parameter extraction
    Simicic, M. ; Morrison, S. ; et al.
    In: 2017 Symposium on VLSI Technology, 2017-06-01, S. 2
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    High performance 14nm FinFET technology for low power mobile RF application
    Jeong, Eui-Young ; Song, Mingeun ; et al.
    In: 2017 Symposium on VLSI Technology, 2017-06-01, S. 2
    Konferenz
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    One and two dimensional nanocarbon materials for innovative functional devices
    Sato, Shintaro
    In: 2017 Symposium on VLSI Technology, 2017-06-01, S. 2
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Highly manufacturable 7nm FinFET technology featuring EUV lithography for low power and high performance applications
    Ha, Daewon ; Yang, C. ; et al.
    In: 2017 Symposium on VLSI Technology, 2017-06-01, S. 2
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    SiGe FinFET for practical logic libraries by mitigating local layout effect
    Tsutsui, Gen ; Zhou, Huimei ; et al.
    In: 2017 Symposium on VLSI Technology, 2017-06-01, S. 2
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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