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    (Invited) Low Frequency Noise Performance of State-of-the-Art and Emerging CMOS Devices : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Claeys, C. ; Aoulaiche, M. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 567-580
    Konferenz
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    A Compact CMOS 3-D Magnetic Field Sensor : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Wang, G. ; Misra, D.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 543-558
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Advanced FinFET Technologies: Extension Doping, V~t~h Controllable CMOS Inverters and SRAM : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability, and manufacturing
    Liu, Y. ; Endo, K. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 28 (2010), Heft 2, S. 385-402
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    XPS Study on Chemical Bonding States of High-k Gate Stacks for Advanced CMOS : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability, and manufacturing
    Nohira, H.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 28 (2010), Heft 2, S. 129-138
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    High-k Gate Dielectrics for Nanoscale CMOS Devices: Status, Challenges, and Future : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability, and manufacturing
    Park, D. ; Wang, X.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 28 (2010), Heft 2, S. 39-50
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Changing Front-End Dielectric Requirements for End-of-the-Roadmap CMOS and Beyond : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability, and manufacturing
    Register, L.F. ; Basu, D. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 28 (2010), Heft 2, S. 3-18
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    CMOS Integration Issues with High-K/Metal Gate Stack : Physics and technology of high-k gate dielectrics
    Kwong, D.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 1 (2006), Heft 5, S. 653-662
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Advanced Gate Stacks with Fully Silicided Gates and High-k Dielectrics for Low Power CMOS : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability, and manufacturing
    Ogura, T. ; Saitoh, M. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 2 (2006), Heft 1, S. 301-310
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    (Invited) Nano-Derived, Micro-Chemical Sensors for High-Temperature Applications : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Sabolsky, E.M. ; Wildfire, C. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 495-506
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    (Invited) Heterogeneously Integrated III-V on Silicon for Future Nanoelectronics : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Hudait, M.K.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 581-594
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Electrical Properties of Silicon Nitride Using High Density and Low Plasma Damage PECVD Formed at 400^oC : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Nakao, Y. ; Teramoto, A. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 421-428
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    (Invited) Heterogeneous Integration of Ultra-Thin Sheets of Alternative Materials onto Silicon Substrates : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Levin, S.M. ; Kuang, J. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 559-566
    Konferenz
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    Polysilicon Nanowire Sensor Devices Based on High-k Dielectric Membrane for pH Sensing and DNA Detection : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Wu, C. ; Hsu, P. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 537-542
    Konferenz
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    New Metal Organic Gas Supply System by Using an Advanced Flow Control System : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Yamaji, M. ; Yamashita, S. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 429-436
    Konferenz
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    Coaxial-Structured Solar Cells with Silicon Nanostructures : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Li, H. ; Chen, K. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 529-536
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Formation of CoSi2/CoSixNy Nanocrystals for Nonvolatile Memory Application : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Huang, J. ; Chang, T. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 361-370
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Forming-Free Resistive Switching Memory Characteristics Using IrO~x/GdO~x/W Cross-Bar Structure : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Jana, D. ; Prakash, A. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 349-354
    Konferenz
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    (Invited) Dry Adhesives for MEMS Assembly, Manipulation and Integration: Progress and Challenges : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Sameoto, D.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 515-528
    Konferenz
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    (Invited) Engineering of Nanocomposite Materials for Sensing Applications : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Amini, A. ; Bahreyni, B.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 507-514
    Konferenz
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Investigation of Antimony Oxide Films Deposited by Atomic Layer Deposition : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Kalkofen, B. ; Mothukuru, V. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 461-476
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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