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    Low Voltage Driven CMOS Circuits Based on Silicon on Glass : Thin film transistor technologies
    Choi, M. ; Choi, J. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 33 (2010), Heft 5, S. 391-398
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Advantages of Nano-Grating Si Substrates in CMOS-FET Characteristics : Symposium on ULSI process integration
    Zhu, X. ; Kuroki, S. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 11 (2007), Heft 6, S. 467-472
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Challenges and Issues in 65nm CMOS Logic Technology : Symposium on ULSI process integration
    Lee, W.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 11 (2007), Heft 6, S. 357-370
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Integration Issues in Metallic Source/Drain Nanoscale CMOS : Symposium on ULSI process integration
    Tao, M. ; Ali, M. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 11 (2007), Heft 6, S. 253-264
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    A Cost-Effective CMOS Technology Utilizing Gate Work Function Control with Hafnium : Symposium on ULSI process integration
    Tsutsui, G. ; Nakamura, H. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 11 (2007), Heft 6, S. 161-172
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Current Status and Perspective of High-k Gate Stack Materials Engineering for Further Scaled CMOS : Symposium on ULSI process integration
    Toriumi, A.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 11 (2007), Heft 6, S. 3-16
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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