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216 Treffer

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    CVD Equipment Corp.
    In: Solid State Technology, Jg. 44 (2001-03-01), Heft 3, S. 26
    Online serialPeriodical
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    Helium reduction at pre-metal sub-atmospheric CVD.
    Kim, Jae Hee
    In: Solid State Technology, Jg. 59 (2016), Heft 1, S. 5
    Online serialPeriodical
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    Volltext (PDF)
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    Delivering new liquid metalorganic precursors to epi and CVD.
    Woelk, Egbert ; Loo, Roger
    In: Solid State Technology, Jg. 57 (2014-12-01), Heft 8, S. 4
    Online serialPeriodical
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    Etch performance of Ar/[N.sub.2]/[F.sub.2] for CVD/ALD chamber clean.
    Riva, Marcello ; Pittroff, Michael ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 52 (2009-02-01), Heft 2, S. 5
    Online serialPeriodical
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    High-performance SiGe pHMOS using: reduced-pressure CVD.
    Shim, Kyu-Hwan ; Song, Young-Joo ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 47 (2004-03-01), Heft 3, S. 4
    Online serialPeriodical
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    Volltext (PDF)
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    Implementation of CVD low-k dielectrics for high-volume production.
    Ruelke, Hartmut ; Huebler, Peter ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 47 (2004), Heft 1, S. 4
    Online serialPeriodical
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    For DRAM and logic: CVD low-k dielectric inteqration. (Deposition).
    Buchanan, Keith
    In: Solid State Technology, Jg. 45 (2002-06-01), Heft 6, S. 4
    Online serialPeriodical
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    Volltext (PDF)
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    The race is on: CVD and spin-on vie for the low-k dielectric market.
    Corbett, Michael A. ; Davis, John C.
    In: Solid State Technology, Jg. 44 (2001-10-01), Heft 10, S. 40
    Online serialPeriodical
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    Volltext (PDF)
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    CVD TiSiN barrier process.
    In: Solid State Technology, Jg. 44 (2001-07-01), Heft 7, S. 210
    Online serialPeriodical
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    Fine control of low-temperature CVD epitaxial growth.
    Loup, Virginie ; Hartmann, Jean-Michel ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 44 (2001-07-01), Heft 7, S. 91
    Online serialPeriodical
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    CVD silicon carbide.
    In: Solid State Technology, Jg. 44 (2001-06-01), Heft 6, S. 195
    Online serialPeriodical
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    Full Text Finder (Volltext)
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    Trends in void-free pre-metal CVD dielectrics.
    Vassiliev, V.Y. ; Sudijono, J.L. ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 44 (2001-03-01), Heft 3, S. 129
    Online serialPeriodical
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    Sekisui and Chemitronics show nonvacuum plasma CVD equipment [*].
    Kimura, Masahide
    In: Solid State Technology, Jg. 44 (2001-03-01), Heft 3, S. 48
    Online serialPeriodical
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Deconvolution technique for CVD and CMP process control.
    Demmin, Jeffrey C.
    In: Solid State Technology, Jg. 44 (2001), Heft 1, S. 30
    Online serialPeriodical
    Zugriff:
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    Etch and CVD process improvements via heated vacuum throttle valves.
    Goodman, Dan ; Pewsey, Shaun
    In: Solid State Technology, Jg. 43 (2000-12-01), Heft 12, S. 80
    Online serialPeriodical
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    Reducing PFC gas emissions from CVD chamber cleaning.
    Johnson, Andrew D. ; Entley, William R. ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 43 (2000-12-01), Heft 12, S. 103
    Online serialPeriodical
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    HDP-CVD.
    In: Solid State Technology, Jg. 43 (2000-12-01), Heft 12, S. 138
    Online serialPeriodical
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    Low-energy plasma-enhanced CVD facilitates high mobility SiGe.
    Demmin, Jeffrey C.
    In: Solid State Technology, Jg. 43 (2000-12-01), Heft 12, S. 30
    Online serialPeriodical
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    CVD cluster tool.
    In: Solid State Technology, Jg. 43 (2000-10-01), Heft 10, S. 173
    Online serialPeriodical
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    CVD tungsten extends MEMS lifetime by order of magnitude.
    Demmin, Jeffery C.
    In: Solid State Technology, Jg. 43 (2000-07-01), Heft 7, S. 38
    Online serialPeriodical
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