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  1. ALI, N ; TITUS, E ; et al.
    In: Recent research developments in materials science (Volume 5 (2004)); (2004) S. 55-83
    Buch
  2. DONATO, M. G ; FAGGIO, G ; et al.
    In: Thin solid films : application, preparation and characterization; (2003) S. 1-16
    Buch
  3. SUGINO, Takashi ; KIMURA, Chiharu
    In: Growth and physical properties of boron-related compounds for advanced applications; (2005) S. 37-70
    Buch
  4. JACQUES, Sylvain ; BERTHET, Marie-Paule ; et al.
    In: Growth and physical properties of boron-related compounds for advanced applications; (2005) S. 23-35
    Buch
  5. WEI, B. Q ; VAJTAI, R ; et al.
    In: Modern topics in chemical physics; (2002) S. 125-147
    Buch
  6. GOLDYS, E. M ; AFIFUDIN, A
    In: Vacuum science and technology : nitrides as seen by the technology 2002; (2002) S. 469-479
    Buch
  7. LUNDIN, W. V ; USIKOV, A. S
    In: Vacuum science and technology : nitrides as seen by the technology 2002; (2002) S. 167-182
    Buch
  8. SLAOUI, Abdelilah ; POORMANS, Jef ; et al.
    In: Growth, characterization and electronic applications of Si-based thin films; (2002) S. 147-181
    Buch
  9. NANAI, Laszlo ; KORDAS, Krisztian ; et al.
    In: Modern topics in chemical physics; (2002) S. 287-301
    Buch
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
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