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    Evaluation of ArF CLM in the sub-100-nm DRAM cell [5040-24] : Optical microlithography
    Lee, J. H. ; Chung, D. H. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 5040 (2003), Heft 1, S. 251-260
    Konferenz
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    The sensitivity of NPP to climate controls in northern China estimated by CLM model coupled with RS and GIS technology [4890-71] : Ecosystems dynamics, ecosystem-society interactions, and remote sensing applications for semi-arid and arid land
    Gao, Z. ; Gao, W. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 4890 (2002), Heft 1, S. 299-305
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Development of mask-making process for CLM manufacturing technology [4754-44] : Photomask and next-generation lithography mask technology
    Park, J. H. ; Chung, D. H. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 4754 (2001), S. 727-736
    Konferenz
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    The generation of China land surface datasets for CLM [5983-76] : Remote sensing for environmental monitoring, GIS applications, and geology
    Li, H. ; Peng, H. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 5983 (2005), S. 59831W
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
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