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26 Treffer

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    Laser-produced plasma (LPP) scale-up and commercialization
    MOYER, Richard H ; SHIELDS, Harry ; et al.
    In: Emerging lithographic technologies V (Santa Clara, 27 February - 1 March 2001), 2001, S. 249-254
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    LPP EUV source development for HVM
    HANSSON, Björn A. M ; FOMENKOV, Igor V ; et al.
    In: Emerging lithographic technologies X (21-23 February 2006, San Jose, California, USA), 2006
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    High power low cost drive laser for LPP source
    FOMENKOV, Igor V ; HANSSON, Björn A. M ; et al.
    In: Emerging lithographic technologies X (21-23 February 2006, San Jose, California, USA), 2006
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Progress in LPP EUV source development at osaka university
    MIYANAGA, Noriaki ; NISHIMURA, Hiroaki ; et al.
    In: Emerging lithographic technologies X (21-23 February 2006, San Jose, California, USA), 2006
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    High-temperature LPP collector mirror
    FEIGL, Torsten ; YULIN, Sergiy ; et al.
    In: Emerging lithographic technologies X (21-23 February 2006, San Jose, California, USA), 2006
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    EUV generation using a droplet of a suspension including tin as a target of a high-efficiency LPP source for high volume production
    TOMIE, Toshihisa ; SARJONO ; et al.
    In: Emerging lithographic technologies X (21-23 February 2006, San Jose, California, USA), 2006
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    LPP EUV source development for HVM
    BRANDT, David C ; FOMENKOV, Igor V ; et al.
    In: Emerging lithographic technologies XI (27 February- 1 March 2007, San Jose, California, USA), 2007, S. 65170Q.1
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    High power and short pulse RF-excited CO2 laser MOPA system for LPP EUV light source
    ARIGA, Tatsuya ; HOSHINO, Hideo ; et al.
    In: Laser beam control and applications (22-23 and 25-26 January 2006, San Jose, California, USA), 2006, S. 61011N.1
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    High average power CO2 laser MOPA system for Tin target LPP EUV light source
    ARIGA, Tatsuya ; HOSHINO, Hideo ; et al.
    In: High energy/average power lasers and intense beam applications (22-24 January, 2007, San Jose, California, USA), 2007, S. 645403.1
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    High repetition-rate LPP-source facility for EUVL
    SCHMID, T ; GEORGE, S. A ; et al.
    In: Emerging lithographic technologies XI (27 February- 1 March 2007, San Jose, California, USA), 2007, S. 65173I.1
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Development of capillary Z-pinch discharge EUV light source
    WATANABE, Masato ; KASAO, Tetsu ; et al.
    In: Laser precision microfabrication (Munich, 21-24 June 2003), 2003, S. 278-281
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Lithographic evaluation of the EUV engineering test stand
    LEE, Sang H ; TICHENOR, Daniel A ; et al.
    In: Emerging lithographic technologies VI (Santa Clara CA, 5-7 March 2002), 2002, S. 266-276
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    EUV absorption in a laser produced plasma source
    KANOUFF, Michael ; SHIELDS, Harry ; et al.
    In: Emerging lithographic technologies V (Santa Clara, 27 February - 1 March 2001), 2001, S. 507-514
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Limits on computational Precision of image compression transformations
    SCHMALZ, M. S ; RITTER, G. X ; et al.
    In: Mathematics of data/image coding, compression, and encryption (San Diego CA, 21-22 July 1998), 1998, S. 153-164
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Optimization of EUV/SXR plasma radiation source characteristics
    MACFARLANE, J. J ; WANG, P ; et al.
    In: Emerging lithographic technologies X (21-23 February 2006, San Jose, California, USA), 2006
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    High power pulsed CO2 laser for EUV lithography
    ARIGA, Tatsuya ; HOSHINO, Hideo ; et al.
    In: Emerging lithographic technologies X (21-23 February 2006, San Jose, California, USA), 2006
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Optimization of EUV laser and discharge devices for high-volume manufacturing
    HASSANEIN, A ; SIZYUK, V ; et al.
    In: Emerging lithographic technologies XI (27 February- 1 March 2007, San Jose, California, USA), 2007, S. 65171X.1
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Laser-produced plasma source system development
    FOMENKOV, Igor V ; BRANDT, David C ; et al.
    In: Emerging lithographic technologies XI (27 February- 1 March 2007, San Jose, California, USA), 2007, S. 65173J.1
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Laser-imaging diagnostics of debris behavior from laser-produced tin plasma for EUV light sources
    NAKAMURA, D ; TANAKA, H ; et al.
    In: Photon processing in microelectronics and photonics VI (22-25 January 2007, San Jose CA, US), 2007, S. 645808.1
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Design of transmission linear partial polarizers using a negative film-substrate system
    ZAGHLOUL, A. R. M ; BERZETT, W. A ; et al.
    In: Advances in thin film coatings for optical applications II (1-2 August 2005, San Diego, California, USA), 2005, S. 58700N.1
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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