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    Advancements of diffraction-based overlay metrology for double patterning
    Weher, Ulrich ; Li, Jie ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2011-03-17
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    Advanced diffraction-based overlay for double patterning
    Hu, Jiangtao ; Smith, Nigel ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2010-03-11
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Simultaneous overlay and CD measurement for double patterning: scatterometry and RCWA approach
    Rabello, Silvio J. ; Dasari, Prasad ; et al.
    In: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXIII, 2009-03-13
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Diffraction-based overlay metrology for double patterning technologies
    Kritsun, Oleg ; Korlahalli, Rahul ; et al.
    In: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXIII, 2009-03-13
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    A comparison of advanced overlay technologies
    Li, Jie ; Tan, Asher ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2010-03-11
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -