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    Reactive hyperemia and baseline pulse amplitude among smelter workers exposed to fine and ultrafine particles.
    Bugge, MD ; Ulvestad, B ; et al.
    In: International archives of occupational and environmental health, Jg. 93 (2020-04-01), Heft 3, S. 399-407
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
    View record at Springer (Volltext)
    Siehe Detailanzeige für Volltext
    Wie komme ich dran?
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    CVD Diamond Films for SOI Technologies
    Chernook, S. G. ; Sharkov, A. I. ; et al.
    2005
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Exploration of Combustion CVD Method for YSZ Thin Film Electrolyte of Solid Oxide Fuel Cells
    Yarmolenko, Sergey ; Sankar, Jag ; et al.
    2006
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    XRD-Studies of SiC/Si layers on carbon substrates
    Treffer, Gerd ; Neuhäuser, Jens ; et al.
    In: Microchimica Acta: Micro and Trance Analysis, Jg. 125 (1997-03-01), Heft 1-4, S. 325-330
    Online academicJournal
    Zugriff:
    View record at Springer (Volltext)
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    Formation of titanium and cobalt germanides on Si (100) using rapid thermal processing
    Ashburn, S. P. ; Öztürk, M. C. ; et al.
    In: Journal of Electronic Materials, Jg. 21 (1992), Heft 1, S. 81-86
    Online academicJournal
    Zugriff:
    View record at Springer (Volltext)
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  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    A Review of infrared spectroscopic studies of vapor-deposited dielectric glass films on silicon
    Wong, Joe
    In: Journal of Electronic Materials, Jg. 5 (1976-04-01), Heft 2, S. 113-160
    Online academicJournal
    Zugriff:
    View record at Springer (Volltext)
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    Advanced Barriers for Copper Interconnects
    Schulz, Stefan E. ; Ecke, Ramona ; et al.
    2006
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Silicon ribbons made by roller quenching methods
    Tsuya, N. ; Arai, K. I. ; et al.
    In: Journal of Electronic Materials, Jg. 9 (1980), Heft 1, S. 111-128
    Online academicJournal
    Zugriff:
    View record at Springer (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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md 768 - 992
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