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    Design and Simulation Study of Full Adder Circuit Based on CNTFET and CMOS Technology by ADS
    Marani, Roberto ; Anna Gina Perri
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 7 (2018), S. M108- (15S.)
    Online unknown
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    Review—System-on-Chip SMO Gas Sensor Integration in Advanced CMOS Technology
    Lahlalia, Ayoub ; Filipovic, Lado
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 165 (2018), S. B862- (18S.)
    Online unknown
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    Ultra-Shallow Junction Formation by Monolayer Doping Process in Single Crystalline Si and Ge for Future CMOS Devices
    Chen, Henry J. H. ; Tseng, Tseung-Yuen ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 6 (2017), S. P350- (6S.)
    Online unknown
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    On the Manifestation of Ge Pre-Amorphization Implantation (PAI) in Forming Ultrathin TiSixfor Ti Direct Contact on Si in Sub-16/14 nm Complementary Metal-Oxide-Semiconductor (CMOS) Technology Nodes
    Radamson, Henry H. ; Luo, Jun ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 6 (2017), S. P660- (5S.)
    Online unknown
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    Influence of Oxide Interlayer by TiN Metal Gate in High-k First CMOS Devices
    He, Youfeng ; He, Yonggen ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 6 (2017), S. P296- (4S.)
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    Role of CMOS Back-End Metals as Active Electrodes for Resistive Switching in ReRAM Cells
    Orlowski, Marius K. ; Kang, Yuhong ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 6 (2016-12-10), S. N1- (9S.)
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    Effect of CoSi2Formation Process on CMOS Transistor Electrical Properties for Sub-100-nm Memory Applications
    Hyo Jin Kang ; Jae Goan Jeong ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 5 (2016), S. P264- (8S.)
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    Communication—CMOS Thin-Film Transistors via Xe Flash-Lamp Crystallization of Patterned Amorphous Si
    Robert George Manley ; Mudgal, Tarun ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 6 (2017), S. Q179- (3S.)
    Online unknown
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    High Dielectric Constant Materials for Nanoscale Devices and Beyond
    Toriumi, Akira ; Misra, Durga ; et al.
    In: The Electrochemical Society Interface, Jg. 26 (2017), S. 77-81
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    Unprecedented Thermoelectric Power Factor in SiGe Nanowires Field-Effect Transistors
    Tafti, Mohsen Y. ; Radamson, Henry H. ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 6 (2017), S. Q114- (6S.)
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    Electrografted P4VP for High Aspect Ratio Copper TSV Insulation in Via-Last Process Flow
    Maurais, Josée ; Pratte, Jean-Francois ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 5 (2016), S. P340- (5S.)
    Online unknown
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    Review—Dopant Selection Considerations and Equilibrium Thermal Processing Limits for n+-In0.53Ga0.47As
    Aldridge, Henry ; Law, Mark E. ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 5 (2016), S. Q125- (7S.)
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    III-V on Si Materials Surface Preparation and Process Control for Safety
    Vert, Alexey ; Fujita, Akira ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 5 (2015-12-09), S. P112- (5S.)
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Thermal Stability of Thin Compressively Strained Ge Surface Channels Grown on Relaxed Si0.2Ge0.8Reverse-Graded Buffers
    Liu, Xue-Chao ; Morris, Robert H. ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 159 (2012), S. H490- (7S.)
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Ultra Compact FDSOI Transistors including Strain and Orientation: Processing and Performance
    Perreau, Pierre ; Weber, Olivier ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 19 (2009-05-15), S. 55-64
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    Growth of III/V Materials on Large Area Silicon
    Ngoc Duy Nguyen ; Heuken, Michael ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 28 (2010-04-16), S. 233-236
    Online unknown
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    Heterogeneous Integration and Fabrication of III-V MOS Devices in a 200mm Processing Environment
    Mitard, Jerome ; Wang, Wei-E ; et al.
    In: ECS Meeting Abstracts, 2011-03-01, S. 1214-1214
    Online unknown
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Low Hydrogen Silicon Carbon Nitride Cap for High Performance Sub-10 nm Cu-Low k Interconnect
    Shaw, Timothy M. ; Haigh, Thomas J. ; et al.
    In: ECS Meeting Abstracts, 2017-04-15, S. 1260-1260
    Online unknown
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    Review—Beyond the Highs and Lows: A Perspective on the Future of Dielectrics Research for Nanoelectronic Devices
    Fan, Junqing ; C.H. de Groot ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 8 (2019), S. N159- (27S.)
    Online unknown
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    Effect of NH2OH on Etching Characteristics of Si{100} in KOH Solution
    Pal, Prem ; Avvaru Venkata Narasimha Rao ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 6 (2017), S. P609- (6S.)
    Online unknown
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