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    Electromigration Study of Plasma Etched Copper Lines with Copper Oxide Capping Layers
    Jia Quan Su ; Kuo, Yue
    In: ECS Transactions, Jg. 97 (2020-04-24), S. 51-60
    Online unknown
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    (Invited) MOS Interface Defect Control in Ge/III-V Gate Stacks
    Yokoyama, Chiaki ; Takenaka, Mitsuru ; et al.
    In: ECS Meeting Abstracts, 2017-09-01, S. 830-830
    Online unknown
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    Direct Exfoliation of Conductive MoS2 Using Peroxide for Solid State Sensor and Catalytic Applications
    Saha, Dipankar ; Ponnambalam Ravi Selvaganapathy ; et al.
    In: ECS Meeting Abstracts, 2021-05-30, S. 675-675
    Online unknown
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  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    (Invited) Realizing 2D Materials Via MOCVD
    Zhang, Kehao ; Briggs, Natalie ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 75 (2016-08-18), S. 725-731
    Online unknown
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  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Rapid Non-Destructive Wafer Detection and Tracking of Defects in Bulk and Epitaxially Grown Gallium Nitride
    Elhadj, Selim
    In: ECS Meeting Abstracts, 2020-11-23, S. 1807-1807
    Online unknown
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  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Tuning the Conductivity of Molybdenum Disulfide (MoS2) Thin Films through Defect Engineering
    Saha, Dipankar ; Kruse, Peter ; et al.
    In: ECS Meeting Abstracts, 2020-05-01, S. 867-867
    Online unknown
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  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    (Invited) Challenges and Developments in GeSn Process Technology for Si Nanoelectronics
    Sakashita, Mitsuo ; Kato, Kimihiko ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 64 (2014-08-12), S. 147-153
    Online unknown
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  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    CMOS Compatible Growth of High Quality Ge, SiGe and SiGeSn for Photonic Device Applications
    Grant, Perry C. ; Du, Wei ; et al.
    In: ECS Meeting Abstracts, 2015-07-07, S. 842-842
    Online unknown
    Zugriff:
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    Wie komme ich dran?
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sm 576 - 768
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