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    (Invited) On the Potential of Lateral BJTs and SiGe HBTs in Advanced CMOS Technologies
    Koricic, Marko ; Osrecki, Zeljko ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 98 (2020-09-08), S. 111-117
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    (Invited) Cluster-Preforming-Deposited Si-Rich W Silicide: A New Contact Material for Advanced CMOS
    Ogawa, Shinichi ; Uchida, Noriyuki ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 89 (2019-04-23), S. 155-164
    Online unknown
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    Novel Exploration of Flat-Band Voltage Manipulation by Nitrogen Plasma Treatment for Advanced High-k/Metal-Gate CMOS Technology
    Yin, Huaxiang ; Yao, Jiaxin ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 89 (2019-04-23), S. 55-59
    Online unknown
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    Back-End of Line Compatible Transistors for Hybrid CMOS Applications
    Liu, Po-Tsun ; Chien Min Chang ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 90 (2019-04-30), S. 135-138
    Online unknown
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    Integration Challenges of Flash Lamp Annealed LTPS for High Performance CMOS TFTs
    Robert George Manley ; Packard, Glenn ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 86 (2018-07-23), S. 57-72
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    (Invited) Monolithic Integration of Si-CMOS and III-V-on-Si through Direct Wafer Bonding Process
    Zhang, Li ; Kwang Hong Lee ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 86 (2018-07-20), S. 177-184
    Online unknown
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    (Invited) Proximity Gettering Design of Hydrocarbon Molecular Ion Implanted Silicon Wafers Using Direct Bonding Technique for Advanced CMOS Image Sensors: A Review
    Okuda, Hidehiko ; Hirose, Ryo ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 86 (2018-07-20), S. 77-93
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    (Invited) The New Silicon Industry: Silicon CMOS ASICs Incorporating Compound Semiconductors
    Fitzgerald, Eugene A.
    In: ECS Transactions, Jg. 86 (2018-07-20), S. 109-112
    Online unknown
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    Structural and Electrical Characteristics of Oxygen Annealed ALD-ZrO2/SiON Gate Stack for Advanced CMOS Devices
    Gupta, Richa ; Vaid, Rakesh
    In: ECS Transactions, Jg. 85 (2018-06-19), S. 1481-1487
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    (Invited)Laser Annealing in CMOS Manufacturing
    Gluschenkov, Oleg ; Jagannathan, Hemanth
    In: ECS Transactions, Jg. 85 (2018-04-09), S. 11-23
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    Real-Time Detection of Self-Assembled Monolayer Formation Using CMOS-Based Nanocapacitor Arrays
    Chinnathambi, Selvaraj ; Saghafi, Mohammad ; et al.
    In: ECS Meeting Abstracts, 2021-10-19, S. 1941-1941
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Atomic-scale Dopant Integration During CMOS Device Fabrication
    Ivie, Jeffrey A. ; Halsey, Connor ; et al.
    In: ECS Meeting Abstracts, 2021-10-19, S. 918-918
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    (Invited) P-Type Thin Film Oxide Semiconductors for Thin Film Transistor-Based CMOS Logic
    Niang, Kham M. ; Niels C. A. van Fraassen ; et al.
    In: ECS Meeting Abstracts, 2020-11-23, S. 1912-1912
    Online unknown
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    (Invited) Process Development of CMOS TFTs for Monolithic 3D-IC Applications
    Chiu, Po-Chen ; Liao, Kuei-Shu ; et al.
    In: ECS Meeting Abstracts, 2020-11-23, S. 1931-1931
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    Argon Annealed ALD-ZrO 2 /SiON Gate Stack for Advanced CMOS Devices
    Gupta, Richa ; Vaid, Rakesh ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 77 (2017-04-26), S. 51-55
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Influence of Oxide Interlayer by TiN Metal Gate in High-k First CMOS Devices
    He, Youfeng ; He, Yonggen ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 6 (2017), S. P296- (4S.)
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Role of CMOS Back-End Metals as Active Electrodes for Resistive Switching in ReRAM Cells
    Orlowski, Marius K. ; Kang, Yuhong ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 6 (2016-12-10), S. N1- (9S.)
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    (Invited) TmSiO as a CMOS-Compatible High-k Dielectric
    Östling, Mikael ; Eugenio Dentoni Litta ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 72 (2016-05-04), S. 79-89
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    (Invited) Material and Device Integration for Hybrid III-V/SiGe CMOS Technology
    Sousa, Marilyne ; O'Connor, Eamon ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 69 (2015-09-14), S. 131-142
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    An Extended-Gate Ion-Sensitive Field-Effect Transistor with CMOS Technology-Intrinsic TiN Sensing Layer
    Teng, Nan-Yuan ; Lin, Chih-Ting ; et al.
    In: ECS Meeting Abstracts, 2020-05-01, S. 2331-2331
    Online unknown
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