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    Chemical Vapor Deposition of Silicon Carbide/Titanium Carbide Composite Films from Dichlorodimethylsilane, Titanium Tetrachloride, and Methane
    Egashira, Y. ; Komiyama, H. ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 146 (1999-02-01), S. 564-569
    Online unknown
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    Growth Kinetics of Chemical Vapor Deposition of β‐SiC from ( CH 3 ) 2SiCl2 / Ar
    Kawase, Motoaki ; Hashimoto, Kenji ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 145 (1998-07-01), S. 2516-2522
    Online unknown
    Zugriff:
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    A Kinetic Study of the Chemical Vapor Deposition of Silicon Carbide from Dichlorodimethylsilane Precursors
    Komiyama, H. ; Egashira, Yasuyuki ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 145 (1998-04-01), S. 1277-1284
    Online unknown
    Zugriff:
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  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    An Anti‐Reflection Coating for Use with PMMA at 193 nm
    Yen, A. ; Schattenburg, Mark L. ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 139 (1992-02-01), S. 616-619
    Online unknown
    Zugriff:
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    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -